祝賀第九屆中國二次離子質譜會議圓滿舉辦

來源：愛發科費恩斯（南京）儀器有限公司      分類：商機 2023-10-23 15:39:42 87閱讀次數

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2023年10月11日至15日，第九屆中國二次離子質譜會議在遼寧省沈陽市圓滿舉辦，PHI CHINA在此表示熱烈祝賀。

在這個充滿創意與探索的盛會上，來自全 球各地的科學家們齊聚一堂，匯聚了無數智慧的火花。他們用獨特的視角和精湛的技術，揭示了二次離子質譜在科學領域的無限可能。

      這場盛會不僅僅是一個學術交流的平臺，更是一次創意的碰撞和思想的碰撞。在會議期間，各位專家學者們分享了Z新的研究成果和科技創新，探討了二次離子質譜在環境科學、生命科學、材料科學等領域的廣泛應用。

這次會議邀請了國內外知名專家進行主題演講，分享他們在二次離子質譜領域的研究心得和經驗。

會議主題包括：

1. 二次離子質譜前沿技術與數據方法；

2. 半導體/微電子分析技術；

3. 地質學微區分析和同位素分析；

4. 材料冶金微區分析、表面分析和3D分析；

5. 生命醫學有機分析與質譜成像分析；

6. 能源環境微區和原位分析。

PHI CHINA與ULVAC- PHI受邀參與了本次會議，同時日本分析實驗室的高級首席科學家Shinichi Iida做了題為“PHI’s Latest TOF-SIMS Instrument PHI nanoTOF3+ and its Applications”的報告，與諸位學者分享了ULVAC- PHIZ 新TOF-SIMS的進展。

Shinichi Iida報告

與會人員合影

飛行時間二次離子質譜(TOF SIMS)作為重要的的表面分析技術，可以對樣品表面的元素組成和分子結構進行痕量定性分析，具有優異的檢測靈敏度，以及極 佳的質量分辨率和空間分辨率，是一種能夠在微米-納米級尺度上研究樣品表面化學組成的分析利器，目前已經廣泛應用于科學研究和工業生產中。

PHI nanoTOF3+

ULVAC-PHI公司是TOF SIMS技術的全 球領 先供應商之一，在儀器設備的研發和制造方面具有豐富的經驗和專業知識。我們的TOF-SIMS具有高分辨率、高靈敏度和高速度的特點，廣泛應用于材料科學、生命科學、電子工業等領域。通過海報展示及技術人員的現場講解，與會者有機會認識到ULVAC-PHI公司的TOF-SIMS儀器，并了解其在不同領域的應用案例和技術優勢。

通過本次會議，我們希望能夠促進TOF-SIMS技術的交流與合作，推動其在科學研究和工業應用中的進一步發展。我們相信，TOF-SIMS技術的廣泛應用將為科學界帶來更多的突破和創新，為社會的發展做出更大的貢獻。

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