大尺寸多溫區真空管式爐
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此設備是為高等院校，科研院所及工礦企業對金屬、非金屬及其它化合物材料在真空或者氣氛狀態下進行燒結、融化、分析而研制的專用設備，
它采用PLC控制，觸摸屏操作，您只需通過輕輕點擊觸摸屏即可完成所有的參數設定，也可滿足各類CVD工藝的需求。
1、真空、氣氛燒結均可。
2、控制穩定可靠，操作方便，安全防護措施完善。
3、采用先進的PID自學習模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。
4、爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料，保溫效果更好，節能降耗。
5、具有物聯網功能（WIFI），可通過手機、電腦遠程對設備進行監控，操作。
6、數據存儲功能，可保存燒結的重要參數，時長達30天之久（每天開機8小時），配方功能，可預存配方20條。
7、聯網功能，通過RJ45接口，采用TCP/IP協議，可以讓系統與上位機相連（上位機需安裝相應軟件）。
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