產(chǎn)品簡介

CHEMIXX CMP 30pm為獨(dú)立系統(tǒng)，占地面積小，非常適合有限的空間。它提供了一個處理站，包括一個洗滌器模塊和一個電動介質(zhì)臂，最多 4 個介質(zhì)線/噴嘴。 專門開發(fā)的卡盤允許從上方和下方同時清潔晶圓。

產(chǎn)品特色

-晶圓最大 300mm

-機(jī)械清洗（雙面）；

-洗滌器模塊（由PVA制成的刷子）

-去離子水、稀釋氨水和 SC1 點(diǎn)膠。

-雙面清潔夾頭（4 或 8 英寸）；

帶輪驅(qū)動組件，用于低速旋轉(zhuǎn)（50-100 rpm）

1x 化學(xué)清洗（頂部）； 介質(zhì)臂

-于 4 條線/噴嘴的電動介質(zhì)臂。

-用于去離子水和稀釋氨分配的水坑噴嘴

-去離子水的 BSR（背面沖洗）噴嘴

-手動和安全聯(lián)鎖工藝室門

-帶有流通孔的工藝室蓋。

-用于三種不同化學(xué)品的三個集成培養(yǎng)基供應(yīng)系統(tǒng)。

-工藝室外的手動去離子水槍。

-帶有四個燈區(qū)的信號燈，用于顯示系統(tǒng)狀態(tài)

-系統(tǒng)前端的緊急停止按鈕

選項

-加熱介質(zhì)線最高可達(dá) 60°C（85°C 取決于介質(zhì)）

-用于10或20升不同化學(xué)品裝罐的外部介質(zhì)容器。 

技術(shù)數(shù)據(jù) 

通用

襯底尺寸: ?200 mm (?8 inch) 或 ?300 mm (?12 inch)

電機(jī)轉(zhuǎn)速: 最大 3.000 轉(zhuǎn)數(shù), 以 1 轉(zhuǎn) 步進(jìn)可編程*

電機(jī)加速: 1 至 999.9 秒，以 0.1 秒為步長可編程

系統(tǒng)架構(gòu): 由粉末涂層不銹鋼制成

系統(tǒng)外殼: 由 PP 白色制成（可選 FM 4910) ，4 個可調(diào)節(jié)支腳

加工碗: 由 PP 天然制成

處理室: 由 PP 白色制成（可選 PVDF)

要求

電源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz

CDA: 8 巴（800KPa）, 管 OD ?10 mm

真空: -0.8 巴 （-80KPa）/ -600 托爾, 管 OD ?10 mm

去離子水: 4 巴（400KPa）, OD ?16.7 mm (3/8”)

氮 (可選): 4.5 巴（450KPa）, PFA tube OD ?10 mm

排水: 重力 OD ?38mm

排氣過程: 1x OD ?110mm, 50-180 m3/h

尺寸 (寬X深X高) 大約

系統(tǒng)外殼: 1200 x 650/850 x 1300/1900 mm (47.2 x 25.6/33.5 x 51.2/74.8 inch)

高度（蓋子打開）: 2000 mm (78.7 inch)