珀金埃爾默半導體制造分析

技術概覽

珀金埃爾默廣泛服務于半導體行業用戶，我們為半導體實驗室提供全光譜和質譜的實驗室產品和服務，包括電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）、電感耦合等離子體光譜儀（ICP-OES）、原子吸收光譜儀（AAS）、氣相色譜（GC），氣相色譜質譜儀（GC-MS）, 傅里葉變換紅外光譜儀（FT-IR），紫外可見光譜儀（UV），熱分析（TA）等及消耗品和服務。在我們提供的所有產品中，珀金埃爾默提供了強大的分析工具，與無與倫比的分析速度和理想的結果。

珀金埃爾默半導體行業

無機元素與納米顆粒檢測方案

珀金埃爾默的原子光譜包括原子吸收光譜技術、電感耦合等離子體原子發射光譜技術和電感耦合等離子體質譜技術。

珀金埃爾默無機元素

與納米顆粒檢測典型應用

晶圓表面金屬雜質自動分析（VPD-ICP-MS）

全自動晶圓表面氣相分解技術（Vapor Phase Decomposition, VPD），主要是利用ICP-MS針對極微量元素分析的專業技術。此為半導體制程中進行晶圓表面金屬雜質分析時不可或缺的管理項目。半導體可容許的金屬雜質濃度，隨著制程的先進化要求越來越低。過去生產在線所使用的全反射熒光X射線法(TRXRF)，雖然其優點是采用非破壞性分析法，不過檢測范圍狹窄，無法達到越來越嚴苛之要求；目前全自動晶圓表面氣相分解技術（ Vapor Phase Decomposition, VPD）可大幅改善檢測范圍，為目前較先進的前處理法。藉由ICP-MS直接分析前處理后的溶液，可測定更低濃度的金屬雜質。VPD-ICPMS可設置在半導體制造工廠（FAB）內，與處理裝置連動進行全自動分析。

珀金埃爾默半導體行業

有機物檢測方案

針對半導體行業對高純試劑，原料等純度和雜質檢測以及對良品率有直接關聯的潔凈室中有機污染物（AMC）監控的需求，珀金埃爾默公司提供全套解決方案。

自1955年PerkinElmer公司發明第 一臺商業化氣相色譜儀以來，珀金埃爾默公司在有機化合物檢測上不斷推動技術進步，并先后發明了實用化的氣質聯用技術以及可實現離線和在線空氣監測的熱脫附技術。珀金埃爾默公司完整的產品線和數十年的應用經驗，為半導體行業的有機物檢測提供了更靈敏，更穩定的解決方案，并贏得了行業內客戶的青睞。

熱脫附-氣相色譜/質譜

氣相色譜/質譜聯用

潔凈室有機污染物檢測（潔凈室有機污染物監測AMC系統）

珀金埃爾默半導體行業

材料組份檢測方案

紅外光譜儀測試電路板膠水固化率（Spectrum Two傅里葉變換紅外光譜儀）

紅外顯微鏡測試電路板污染物（Spotlight 200i全自動紅外顯微鏡）

熱機械分析儀測試熱膨脹系數（TMA 4000熱機械分析儀）

差示掃描量熱法測量基板固化程度（DSC 8000功率補償型差示掃描量熱儀）

熱重分析儀測試基板成分濃度（TGA 8000 熱重分析儀）