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2025-01-10 17:05:18微納機(jī)電系統(tǒng): 微納機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）是集微型機(jī)械結(jié)構(gòu)、傳感器、執(zhí)行器及電子控制于一體的系統(tǒng)。它主要由微型傳感器、執(zhí)行器及電子接口等組成，能夠?qū)崿F(xiàn)信息的獲取、處理及執(zhí)行。微納機(jī)電系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于汽車電子、消費電子、生物醫(yī)療及航空航天等領(lǐng)域，具有體積小、功耗低、集成度高及性能穩(wěn)定等技術(shù)優(yōu)勢。在微納技術(shù)、電子工程和精密制造中發(fā)揮著重要作用。

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PμSL與TPP微納光固化3D打印技術(shù)（文末有驚喜）

增材制造被認(rèn)為是“一項將要改變世界的技術(shù)”。光固化3D打印是其中的一個重要方向，以數(shù)字化模型為基礎(chǔ)通過光與材料

 深圳摩方新材科技有限公司 700
2022-05-28
微納機(jī)電系統(tǒng) 光固化3D打印技術(shù) PμSL面投影微立體光刻技術(shù) 雙光子子聚合TPP

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微納機(jī)電系統(tǒng)問答

2023-02-05 09:13:27納克微束祝您元宵節(jié)快樂！: 萬家燈火，歡樂元宵！納克微束祝大家好夢皆圓！

2023-02-01 14:56:12蔡司激光共聚焦顯微鏡-微納器件的表征分析: 對微納器件進(jìn)行表征時，常關(guān)注的便是器件的表面形貌和三維尺寸信息，比如粗糙度、深度、體積等，這些都是評價微納加工工藝的重要指標(biāo)。然而，在進(jìn)行表面三維的分析工作中，我們可能常遇到這樣的苦惱：　　光學(xué)明場無法直接定位到亞微米級缺陷結(jié)構(gòu)!　　樣品結(jié)構(gòu)太復(fù)雜，微弱信號無法捕獲，難以準(zhǔn)確測量尺度信息!　　三維接觸式測量經(jīng)常會損傷柔軟樣品，導(dǎo)致測試結(jié)果不準(zhǔn)確!　　今天，友碩小編將從下面幾個角度來看看蔡司激光共聚焦顯微鏡如何幫助你更好地解決這些問題。　　失效分析：多尺度多維度原位分析!　　器件表面往往存在一些特殊的結(jié)構(gòu)或缺陷，比如亞微米尺度的劃痕，這些特征難以在光學(xué)明場下被直接觀察到。C-DIC(圓微分干涉)觀察模式可以讓樣品表面亞微米尺度的微小起伏都可以呈現(xiàn)出浮雕效果，幫助我們快速定位并開展下一步的分析工作。　　▲ 不同觀察方式下晶圓表面缺陷　　在定位到感興趣區(qū)域后，可以直接切換到共聚焦模式，進(jìn)行表面三維形貌掃描，并進(jìn)行尺寸測量及分析，無需轉(zhuǎn)移樣品即可完成樣品多尺度多維度的表征。　　▲共聚焦三維圖像及深度測量　　對于某些樣品，暗場和熒光模式也是一種很好定位方法，表面起伏的結(jié)構(gòu)在暗場下尤其明顯，如藍(lán)寶石這類能發(fā)熒光的晶圓，利用熒光成像也能幫助我們快速地定位到失效結(jié)構(gòu)。甚至，共聚焦還可以和電鏡或者雙束電鏡(FIB)(點擊查看)實現(xiàn)原位關(guān)聯(lián)，在共聚焦顯微鏡下進(jìn)行定位后轉(zhuǎn)移樣品到電鏡下進(jìn)行更高分辨的表征分析。　　深硅刻蝕：結(jié)構(gòu)深，信號弱，蔡司激光共聚焦顯微鏡有辦法!　　深硅刻蝕的樣品通常為窄而深的溝壑結(jié)構(gòu)。接觸式測量(如臺階儀)無法接觸到溝壑底部測得信息，而由于結(jié)構(gòu)特殊造成了反射光信號損失，常規(guī)白光干涉或者顯微明場無法捕獲底面的微弱信號。因此，不得不對樣品進(jìn)行裂片分析，這不僅破壞了樣品，而且還使分析流程復(fù)雜化。　　西湖大學(xué)張先鋒老師用蔡司激光共聚焦顯微鏡對深163.905 μm，寬3.734μm的刻蝕坑進(jìn)行成像，高靈敏探測器、大功率激光及Z Brightness Correction技術(shù)可以幫助成功檢測到底部的微弱信號，完成大深寬比(近50：1)樣品的三維形貌表征與測量，輕松實現(xiàn)無損檢測分析。

2023-06-08 17:52:34邀請函｜飛納電鏡邀您參加微納科技與先進(jìn)材料創(chuàng)新大會 2023: 復(fù)納INVITATION微納科技與先進(jìn)材料創(chuàng)新大會（2023）將于 6 月 10 日 - 12 日在重慶舉辦。本次會議旨在凝聚優(yōu)勢力量、加強(qiáng)納米科學(xué)與微納制造技術(shù)的基礎(chǔ)研究與應(yīng)用研究，促進(jìn)多學(xué)科交叉融合，促進(jìn)先進(jìn)材料產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展。時間：2023 年 6 月 10 日 - 12 日地點：重慶兩江云頂大酒店復(fù)納科技展位號：7 號新興的微納材料在電子、通信和物聯(lián)網(wǎng)、能源存儲、化工和燃料生產(chǎn)、醫(yī)療保健、藥物輸送等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。納米材料的性質(zhì)與其組成和表面形貌有很大的關(guān)系，復(fù)納科技擁有一系列高精尖的分析檢測儀器與先進(jìn)的解決方案，可以對納米材料進(jìn)行分析表征和改性。歡迎各位老師同行蒞臨【7】號展位，和我們一起探討交流！莊思濛復(fù)納科技產(chǎn)品經(jīng)理報告時間：6月12日 16:05-16:25本次會議中，復(fù)納科技產(chǎn)品經(jīng)理莊思濛將在“微納技術(shù)在新能源電池領(lǐng)域中的應(yīng)用技術(shù)”分會場帶來《電池粉末原子層沉積包覆改性及原位電鏡表征方案》的主題報告。1、Phenom-飛納臺式掃描電鏡飛納臺式掃描電鏡操作簡單，效率高，成像質(zhì)量高，其優(yōu)異的低真空模式可實現(xiàn)無需噴金直接觀察不導(dǎo)電樣品。最新的第二代場發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 分辨率優(yōu)于 1.5nm，是分辨率最高的臺式掃描電鏡，是納米材料表征的強(qiáng)有力工具。Phenom Pharos G2飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡Phenom XL G2飛納臺式掃描電鏡大樣品室卓越版Phenom ProX飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)2、Forge Nano-原子層沉積系統(tǒng)ALD 原子層沉積技術(shù)已被證明可用于多種組分以及納米結(jié)構(gòu)的制備，包括單原子 / 團(tuán)簇催化劑、鋰電材料表面包覆等等。Forge Nano 設(shè)備基于 ALD 工藝可實現(xiàn)從毫克到千噸級的粉末包覆處理量，能夠有效提高電池化學(xué)性能與安全性。3、DENSsolutions-TEM 原位實驗方案DENS 產(chǎn)品可以為 TEM 樣品施加外界刺激，實現(xiàn)在 TEM 中引入氣、液、熱、電等多種條件，捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現(xiàn)象。目前提供的四種原位實驗方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱 / 加電方案。Wildfire 原位加熱樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Stream 原位液相加熱/加電樣品桿Climate 原位氣相加熱樣品桿4、VSParticle-全自動納米研究平臺VSParticle 設(shè)備采用火花燒蝕制備納米顆粒的技術(shù)，可對產(chǎn)生的顆粒進(jìn)行粒徑的控制，從而獲得不同粒徑中位值的單分散納米氣溶膠。此外該技術(shù)也能用于進(jìn)行快速打印以及粉末表面的納米沉積。歡迎各位老師蒞臨展位與我們探討交流，我們將隨時為您提供專業(yè)的解答與支持，現(xiàn)場也有精美小禮品相送噢！