光刻是半導(dǎo)體制程中的關(guān)鍵步驟，隨著微電子制造技術(shù)的發(fā)展，對光刻的精密度、復(fù)雜度的要求逐漸增 高。在這一過程中，光刻膠作為光刻技術(shù)不可或缺的組成部分，其性能對光刻的最 終效果起著至關(guān)重要的作用。光刻膠也叫光致抗蝕劑，是一種光敏材料，在特定波長光源的照射下會發(fā)生化學(xué)變化，如聚合或分解，可以將掩模版上的圖案轉(zhuǎn)印到晶圓表面。根據(jù)所使用的曝光波長的不同，半導(dǎo)體光刻膠可分為紫外寬光譜（300 - 450 nm）、G 線（436 nm）、I 線（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm）、EUV（13.5 nm）幾種類型。

表 1. 光刻膠種類（按曝光波長分類）

光刻膠通常由光敏劑、樹脂、聚合物單體、溶劑和其他助劑組成。其中，光產(chǎn)酸劑是各類化學(xué)增幅抗蝕劑的關(guān)鍵組分之一，可以增強(qiáng)抗蝕劑膜層的光照部分與非光照部分的溶解度差異反差，從而實現(xiàn)清晰的顯影成像。研究發(fā)現(xiàn)，產(chǎn)酸源透明度的改善是提高 193 nm 光刻膠性質(zhì)的關(guān)鍵因素之一。因此，研究產(chǎn)酸劑在溶劑和固體膜層中的透光性尤為重要。此外，透過率也是評估成品光刻膠膜的重要指標(biāo)之一。

紫外可見分光光度計是評價樣品透過率和反射率等光學(xué)性能的常用設(shè)備。安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀，均可測試低至175nm的波長范圍，且具有優(yōu)異的光度穩(wěn)定性和線性范圍，在 193 nm、248 nm 這兩個關(guān)鍵波長處具有優(yōu)異的性能表現(xiàn)。

圖 1. 193 nm 某樣品 10 次測試重復(fù)性最 大偏差優(yōu)于 0.025 %

圖 2. 248 nm 某樣品 10 次測試重復(fù)性最 大偏差優(yōu)于 0.010 %

安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀，使用簡單便捷，堅實耐用，附件齊全，搭配液體支架可以測試液體膠水的透過率，通過固體樣品支架還可以測試固體膠膜的透過率。

圖 3. Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀

圖 4. 液體樣品測試示意                                                    圖 5. 固體樣品測試示意

圖 6. Cary4000 測試固化于玻片上的光刻膠透過率

結(jié)論

安捷倫 Cary4000/5000/6000i 系列光譜儀光學(xué)性能卓 越，具備極低的噪音和雜散光水平，對于挑戰(zhàn)性的低波段具有優(yōu)異的穩(wěn)定性，其測試結(jié)果準(zhǔn)確可靠，在光學(xué)測試領(lǐng)域有極高的市場認(rèn)可度。

標(biāo)簽：Cary4000系列光譜儀Cary5000系列光譜儀Cary6000i 列光譜儀