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產品特點：

臥式低壓化學氣相沉積爐管用于沉積高品質的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅；用于沉積高品質的低應力氮化硅或氮氧化硅。

產品詳情：

臥式低壓化學氣相沉積爐管

產品簡介

用于沉積高品質的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅；用于沉積高品質的低應力氮化硅或氮氧化硅。

主要技術指標

爐管1：N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉積工藝

氣體：高純N2、SiH4、PH3

爐管2：低應力氮化硅，氮氧化硅薄膜

氣體：高純N2、NH3、N2O、SiH2Cl2

溫度：700-900 °C

硅片尺寸：3英寸、4英寸、6英寸圓片；50片/爐

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