1.設備簡介
本設備是一款小型電阻蒸發鍍膜儀,主要特點是設備體積小,結構簡單緊湊易于操作,也可整機放置于手套箱內,對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者國內zuiyou的配置,從而提高設備的穩定性;另外自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。
目前該設備配3組電阻蒸發源(可兼容金屬與有機蒸發),一臺2000W直流蒸發電源,主要用來開發納米級單層及多層的金屬導電膜、有機薄膜等。
2.主要技術參數
2.1 腔室尺寸:Ф246×228mm,1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質,氬弧焊接;
2.2 樣品臺尺寸:可拆卸式,尺寸60×60mm,旋轉:0-20r/min可調;
2.3 真空系統:機械泵(TRP-12,3L/s)+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s);GDC-25b電磁擋板閥;
2.4 極限真空:8.0×10-5Pa;
2.5 真空抽速:大氣~8×10-4Pa ≤ 30min;
2.6 真空測量:全量程復合真空計,測量范圍:105Pa~10-5Pa;
2.7 蒸發源:3組電阻蒸發源,3組間可切換,源間有防污板;
2.8 蒸發電源:直流蒸發電源1臺,0 W~2000W連續可調,供3組蒸發源切換使用;
2.9膜厚控制系統:進口Inficon SQM-160單水冷探頭,控制精度0.1?;
2.10控制方式:PLC+觸摸屏智能控制系統,具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能;
2.11設備外形:L53.5cm×W52cm×H75cm機電一體化機架,預留1個KF40和一個CF35法蘭接口;
2.12 設備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);
2.13 冷卻循環系統:水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃,給設備相關需水冷
部件提供穩定的制冷水;
3.設備主要配置表
主要配置 | |
真空腔室 | Ф246×228mm,1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼 |
分子泵 | 進口Pfeiffer分子泵 |
前級泵 | 機械泵 |
真空規 | 全量程真空規,上海玉川 |
蒸發源 | 電阻蒸發源(兼容金屬與有機蒸發)3組,可切換使用 |
蒸發電源 | 2000W直流蒸發電源1臺,供3組蒸發源切換使用 |
控制系統 | PLC+觸摸屏智能控制系統1套,維意真空 |
冷水機 | LX-300,維意真空 |
膜厚儀 | Inficon SQM160 |
前級閥 | GDC-25b電磁擋板閥1套,維意真空 |
旁路閥 | GDC-25b電磁擋板閥1套,維意真空 |
充氣閥 | Φ6mm,電磁截止閥1套,維意真空 |
基片臺 | 可拆卸式60×60mm,旋轉:0-20r/min可調 |
真空管路 | 波紋管、真空管道等1套,維意真空 |
設備機架 | 機電一體化,維意真空 |
預留接口 | KF40及CF35各一個,維意真空 |
輔件備件 | CF35銅墊圈及氟密封圈全套等,維意真空 |
4.設備主要優勢
4.1 實用性:
4.1.1 設備集成度高,結構緊湊,占地面積小,可以放置于實驗桌面上即可;
4.1.2 通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換,實現一機多用;
4.2 方便性:
4.2.1 設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調試簡單,既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔性;
4.2.2 設備可將主機置于手套箱內,水、電、氣等通過4個KF40接口接到手套箱外,與手套箱的對接靈活方便;
4.2.3 設備工作電壓為220V,整機功率小于2KW,對實驗室的供電要求低;
4.3 穩定性:
4.3.1設備主要零部件采用進口或國內知名品牌,保證了設備的質量及穩定性;
4.4 先進性:
4.4.1 獨立開發的PLC+觸摸屏智能操作系統,具有智能控制模式和調試維修模式;
4.4.2 控制系統具備漏氣自檢與提示功能,當設備漏氣時,系統會自動提示設備漏氣,以便用戶進行檢漏,保證設備正常穩定運行;
4.4.3 控制系統具備保養維護提示功能,當設備運行達到一定時長,系統會自動提示設備需要維護保養,以便用戶及時進行維護,保證設備正常穩定運行;
4.4.4 控制系統具備通訊故障自檢功能,系統對分子泵、濺射電源、真空規、電機、流量計等部件的通訊進行自檢,如果某個部件出現故障,可以按照系統中的各部件故障查詢辦法進行查詢,及時確認故障原因,保證設備安全;
4.4.5 控制系統具備數據記錄與導出功能,控制系統記錄設備的操作記錄及鍍膜過程數據,可以在系統中查看這些數據,也可以用U盤導出這些數據;
4.4.6 該系統具備三個等級級密碼保護功能,不同等級不同使用權限,確保設備的安全性和數據的保密性;
5.設備安裝條件(用戶自備)
5.1 供電要求
5.1.1 設備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);
5.1.2 插座距離設備尺寸≤2m;
5.1.3 其它:如用戶選配冷卻循環水機或其它選購件,用戶自行準備增配件的供電要求,不在安裝條件范圍內;
5.2 供水要求
5.2.1 設備需水冷的部件有蒸發電極、膜厚儀探頭(如選配膜厚控制系統);
5.2.2 水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃;
5.3 安裝場地大小要求
設備尺寸為:L51.7cm×W53.6cm×H74.5cm,建議安裝場地尺寸≥L60cm×W80cm。
5.4 其他要求
5.4.1 環境溫度:5~40℃;
5.4.2 環境濕度:<85%R.H;
5.4.3 室內無大量塵埃,無腐蝕性、易燃易爆氣體;
6.設備服務承諾
尊敬的客戶:
首先感謝您對我們公司產品的信任!
我公司本著“以最合理的價格、最完善的服務、提供zuiyou質的產品”的宗旨向您鄭重承諾:
6.1 售后服務承諾
6.1.1 產品質保期為一年;
6.1.2 在質保期內供方將免費維修和更換因設備質量原因造成的零部件損壞;
6.1.3 在質保期外設備零部件的損壞,提供的配件只收成本費;
6.1.4 質保期內或質保期外如設備出現故障,供方接到用戶的正式通知(含電話或郵件通知)后,我公司技術人員于48小時內,趕到技術服務現場并開始維修。
6.2驗收
6.2.1 我公司負責將設備初驗收合格后,包裝好免費運送至客戶所在地,經檢驗后拆封,供方開始安裝調試,運輸費用及安裝調試費用我司負責;
6.2.2 我公司根據客戶要求,負責組織專業人員對設備進行安裝調試,客戶需提供基本的安裝條件和專人配合,以確保安裝調試的順利進行;
6.2.3 設備安裝調試到位后,雙方組織驗收,并對驗收單進行驗收簽字;
6.2.4 我公司向客戶提供的設備資料包括:設備說明書、驗收單、裝箱單、產品合格證、備品備件清單;
6.2.5 我公司在客戶安裝現場進行的設備驗收發生的一切費用由我司承擔;
6.3培訓
6.3.1 我公司派技術工程師對客戶人員在設備安裝調試時進行技術培訓。使需方人員能掌握有關設備的使用、維護,達到能獨立進行操作、維護等的目的。
6.3.2 培訓地點為客戶設備使用現場,培訓人數不少于2人,培訓時間根據實際情況而定,培訓費用由我司承擔。
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PS-200單靶磁控濺射鍍膜機主要由真空室、磁控靶、旋轉基片架、真空系統、機架、電器控制等幾大部分組成??捎脕碇苽鋵щ娔ぁ⒔饘倌?、介質膜、半導體膜、絕緣膜、多層膜等。設備結構緊湊,占地面積小適合高校實驗室及科研院所。
CCU-010 鍍膜機提供兩種款型。CCU- 010 LV低真空鍍膜機,CCU- 010 HV 高真空鍍膜機。采用模塊化概念,便于以后把低真空鍍膜機轉變為高真空鍍膜機。
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