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產品詳情：

實驗室真空高溫爐

設備簡介

美國Thermal Technology高溫爐適用于各種實驗室應用及小規模生產。操作簡單，性能穩定。高可定制溫度達3000℃。

設備特點

* 豐富加熱原件可供選擇

* 高溫度可達3000°C

* 可實現超高真空

* 可實現Ar/N₂/O₂/H₂等多種氣氛環境

應用領域

美國Thermal Technology高溫爐可用于粉末冶金、金屬化合物、陶瓷、半導體、物理、化學、材料、光學等諸多領域的樣品合成及熱處理工藝。

設備型號

石墨高溫爐

Model 1000 石墨高溫爐

高溫度2900℃

頂部或底部進料

垂直或水平爐體

惰性氣體

機械泵真空系統

Model HTG 石墨高溫爐

高溫度2500℃

底部進料

惰性氣體

機械泵真空系統

高真空選件

Graphite Hot Zone

石墨高溫爐 GRAPHITE HOT ZONE
型號	溫度(°C)	爐膛尺寸(inch)	爐膛尺寸(mm)
1000-2560-FP20	2800	Ф 2 x 6	Ф 50 x 150
1000-3560-FP20	2650	Ф 3 x 6	Ф 75 x 150
1000-4560-FP30	2500	Ф 4 x 6	Ф 100 x 150
1000-45120-FP30	2000	Ф 4 x 12	Ф 100 x 300
1000-6580-FP40	2300	Ф 6 x 8	Ф 150 x 200
HTG-9020-FP23	2300	Ф 8 x 16	Ф 200 x 400

金屬高溫爐

Model 1100金屬高溫爐

高溫度2900oC

頂部或底部進料
惰性氣體
高真空選件
可燃氣體選件

Model 1100金屬高溫爐

高溫度2000oC

機械泵真空系統
高真空選件
可燃氣體選件

Metal Hot Zone

金屬高溫爐 Metal HOT ZONE
型號	溫度(°C)	爐膛尺寸(inch)	爐膛尺寸(mm)
1100-2560	2800	Ф 2 x 4	Ф 50 x 10
1100-3580	2700	Ф 3 x 6	Ф 75 x 150
1100-4080	2500	Ф 3.5 x 6	Ф 88 x 150
1100-40100	2200	Ф 3.5 x 8	Ф 88 x 200
1300-70160	2000	Ф 6 x 12	Ф 150 x 200

發表文章

1. Spectrum regulation of YAG:Ce transparent ceramics with Pr, Cr doping for white light emitting diodes application.Journal of the European Ceramic Society ,Volume 37, Issue 10, August 2017, Pages 3403-3409.

2. Thermal and structural stability of single- and multi-walled carbon nanotubes up to 1800 ℃ in Argon studied by Raman spectroscopy and transmission electron microscopy, Materials Research Bulletin 48 (2013) 41–47

用戶單位

江蘇師范大學

中科院硅酸鹽研究所

北京交通大學

武漢大學

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