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PVA Munich Metrology - 晶圓表面測量/晶圓表面制備系統
- 品牌：德國PVA TePla
- 型號： WSMS
- 產地：歐洲 德國
- 供應商報價：面議
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香港電子器材有限公司
更新時間：2025-07-25 11:10:27 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業執照已審核
- 同類產品量測儀器(4件)
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詳細介紹
產品介紹：
WSMS - 晶圓表面測量系統
Munich Metrology提供了zuixianjin的，完全整合的VPD測量系統。該WSMS包括前緣的VPD，氣相分解，zuixianjin，精密的化學品輸送系統，自動提供所需的所有集成的ICP-MS分析的校準的化學品VPD和所有的化學物質樣品采集系統系統。它是一臺用計算機控制的系統，接受遠程命令，并通過SECS / GEM工廠自動化接口提供的測量結果實時在一個完整的測量系統。該WSMS的優點包括：
全自動
zuidi的檢出限制
更快地取得測量結果
實時操作過程
通過精密，無錯，加藥，稀釋，混合和傳遞到兩個VPD和ICP-MS的操作精確測量
無需人工較準, 降低成本
Utilities
Dimension
Power : 220/110 V, 2.2 kW
DI water : 1.5 bar (20 psi), 2 l/h
Nitrogen : 1.5 bar (20 psi), 0.7 m3/h
Exhaust : 50 m3/h
DrainDepth : 1507 mm
Width : 2065 mm
Height : 2140 mm
Table Top : 945 mm
Weight : 1100 kg
WSPS - 晶圓表面制備系統(VPD Preparation)
WSPS系統包括處理模塊，機器人控制，錄像帶站cassette stations 和固定負載接口站系統中的FOUPS，提供過濾后的潔凈空氣，工具和電源各個獨立模塊。WSPS軟件提供了完整的系統運行能力和數據收集，包括定制配方設置，作業定義，作業執行，晶圓優先級和遠程監控和操作管理。
掃描整個晶圓表面無殘留
系統模塊設計
自動處理功能
適用于硅片及其它材料表面
WSPS, Wafer Surface Preparation System and VPD Modules
PAD-Fume, Oxide Etch Module
PAD-Fume
可編程自動分解煙化機
PAD-Fume是Munich Metrology 晶圓表面清洗裝置的模 塊之一 , 用于分析硅片表面和其氧化物的超微量金屬污染。它也可與自動液滴掃描器 PAD-Scan以及PAD-Dry （只適用于全反射X射線熒光-TXRF分析）組合使用。
PAD-Scan, Sample Collection Module
PAD-Scan
可編程自動液滴掃描器
PAD-Scan 提供了一個高度敏感硅晶片VPD分析的新質量。它的全自動化操作,除去了人工操作所造成的所有微粒污染，降低空白試驗值, 從而大幅度提升并達到卓 越的偵測度。
由于其掃描程序的精確控制,PAD-Scan把VPD打造成為一個能提供優良重復性的可靠制備方法, 是個適合用于前端工藝, 針對晶圓表面質量管理的理想方案。
由于精密的部分掃描模式,任何晶片的范圍皆可選擇用于收集VPD殘液。機器手的晶圓處理能力可用于所有晶圓, 直徑達300毫米。
PAD-Dry
可編程自動液滴烘干機
T只適用于全反射X射線熒光-TXRF分析。 采用真空及適度的熱量, 平均及快速地把晶圓烘干。
全自動化系統操作
作為以生產導向工具的WSPS系統提供了自動晶圓處理，包括SMIF和FOUP loadports的所有選項。所有以軟件標準，如SECS / GEM與工廠控制系統結合。
VPD 原理
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以校準了的化學溶液或超純水（50?350微升）先以移液管滴到晶片上。之后由高純度管作為引導，在晶片表面形成可編輯的格局。在掃描完成后，管子將在一個短氮氣脈沖下脫離液滴。
液滴可在晶片的預定位置上蒸發(用于TXRF分析)，或利用移液管轉移到小瓶（用于ICP-MS分析）。掃描前后可以使用清洗液清洗，再用超純水沖洗掃描官子和移液管。
300/450mm 橋梁工具
Munich Metrology VPD 系統和模塊可用于晶圓尺寸可達450mm。 所有450毫米的產品以橋梁工具將兩個300和450毫米的晶圓一起工作。
系統翻新 (Refurbished Systems)
Munich Metrology 可以將舊的GeMeTec VPD 產品翻新成一臺先進的系統，請與我們的銷售聯系。
滬公網安備 31011502008050號