3D顯微鏡/輪廓儀納米級至毫米級 表面形貌分析

白光干涉/景深融合/共聚焦 三合一測量

MV-1000神影系列3D顯微鏡結合高精度掃描和高精度算法， 可以實現納米級到毫米級尺度 的表面形貌分析，包含粗糙度、臺階、面形輪廓、曲率等多種參數。由于其無接觸（無損檢測）、對樣品表面剛性無要求、精度高、快速掃描等特點，已經被廣泛運用于半導體、光學材料、生物芯片、金屬表面、精密加工等行業。

多模式：

白光干涉、景深融合、共聚焦、明場觀察不同觀察模式，一臺顯微鏡實現不同場景測量需求

 高精度：

在不同測量模式，可實現亞納米到納米級精度的分析結果

快速度：

獨有AI算法分析圖樣，實現“無延遲”的結果輸出，體驗“一鍵式”結果測量

模塊化：

無論是特殊樣品需求還是功能需求，可提供“模塊化”定制功能產品，滿足各類特定場景工作流任務

適用多行業應用需求

MV-1000神影系列顯微鏡，以其卓越的光學檢測技術，滿足不同行業和應用場景的嚴苛需 求。無論是生物芯片、半導體、光學材料檢測，我們都提供定制化的觀察和測量解決方案，以適應您的特定需求。

一鍵測量：簡單易用

MV-1000神影系列顯微鏡

MV-1000神影系列顯微鏡采用前沿的一體化設計理念，將科技與精密工藝融合。緊湊的內部構造和固定光學元件，不僅確保了操作的便捷性，更大幅提升了系統的穩定性與可靠性，讓您的每一次觀察都無誤。

搭載我們自主研發的智能優化算法，MV-1000神影系列在任何工作模式下均能提供無與倫比的“實時”采集體驗，快速響應，無需等待，實時圖像采集讓微觀世界的每一次微妙變化盡在掌握。

深知行業差異化的重要性，MV-1000神影系列允許客戶根據特定行業要求定制檢測報告。從數據采集到報告生成，每一步都嚴格遵循您的標準，確保信息的精確傳達和高效決策。

在半導體檢測領域，可在線檢測晶圓臺階高度、平面度、粗糙度等參數。通過非接觸式測量技術，避免晶圓產生劃痕缺陷，同時實現高通量測量。

允許大尺寸晶圓拼接，導航尋圖，進行快速檢測

* 200億像素融合拼接，支持區域導航功能，快速檢測分析

光學材料領域，精密檢測技術可以幫助提高光學鏡片的產品質量與性能

表面粗糙度、面形等參數是影響光學鏡片品控與性能的重要因素

生命科學領域，檢測微流控芯片或其母版表面粗糙度 ，以及微流道高度和寬度，實現精確把控微流控芯片的反應效率、 試劑混合程度、以及液體流速等因素

在3C電子產品及精密加工行業中，可快速、高精度地測量產品機加工劃痕，粗糙度等指標