托托科技推出的無掩模光刻機，以其革命性的技術革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學研究、定制化生產、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等眾多領域，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。

激光直寫光刻技術與DMD無掩模光刻技術

激光直寫技術通過激光束直接在材料表面進行高精度加工，而DMD無掩模技術通過數字微鏡陣列投影光束進行圖案化加工，適用于大面積光刻。

DMD無掩模光刻技術路線介紹

基本原理：DMD技術利用數字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，從而通過投影系統在材料表面快速形成圖像或光刻圖案 。這些微鏡根據電信號的控制會精確調節反射角度，將激光或光源投射到特定位置。

系統組成：基于DMD的無掩模光刻系統通常由光源模組、勻光模組、DMD模組、投影模組、運動臺模組和軟件等幾大部分構成，這些模組高效的協同工作，實現了高分辨率圖案的快速無掩模光刻。

工作流程：上位機的發送圖形數據到DMD模組，DMD顯示對應的圖形，經由DMD反射的光攜帶著圖形信息，并經過一系列光學元件后照射到基片上，實現了圖形的轉移。高精度運動平臺的協同工作，確保不同曝光區域的拼接, 實現大型、復雜圖案的動態曝光。