eneq P400A 和 P800 是專為工業規模生產設計的原子層沉積系統。它們是從研發階段到大規模的工業化生產的理想工具。該系統經過工業認證，技術成熟可靠。該設計主要基于在嚴苛的工業應用中連續運行25年（24/7）的豐富經驗。

我們的大多數工業客戶需要專用的設備和工藝設置。Beneq 擁有多臺 P400A 和P800 系統，用于滿足應用開發和薄膜研發過程中的各種鍍膜需求。
因此，那些尋找生產設備的客戶可以在進行投資之前，驗證工藝及設備的技書性能和財務成本。此外，我們還提供小規模量產的可能性，直到客戶可以實現自主生產。

性能優勢

• 研發階段后可立即擴大到生產階段。

• 用于可重復生產控制的日志記錄。

• UPS支持功能。

• 維護需求更低。

• 采用獨特的迷你尺寸設計，可滿足裝載、批量生產、基底尺寸的靈活性以及污染控制。

• 采用迷你尺寸和專有的過濾器設計，可從 P400 系統上分離進行清洗工作。進行清洗時無需停機。

• 具有高性價比的熱腔和大容量批量系統。

• 獨特的熱穩定源供應系統、嵌入式快速計量閥和集成的前驅體通道。

• 真空泵系統采用專有的大容量前驅體吸附和過濾系統，可實現大批量加工。

• 除了正常的加熱回路以外，附加 PLC 可通過專用熱電偶避免過熱，從而提高生產安全性。

• 經過30年的發展，行業見證的高重復性和生產可靠性。