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1700度高真空CVD化學氣相沉積系統

銷售范圍售全國

入駐年限第9年

營業執照已審核

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詳細介紹

設備簡介：

化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環保科學等領域；

技術參數：

	系統描述
產品型號	NBD-T1700-80ITG3Z
工作溫度	≤1650℃
加熱區尺寸	310mm
恒溫區尺寸	220mm
升溫速率	≤20℃/min
電氣規格	AC 220V 4.5KW
溫區位置顯示	將設備溫區直接在設備殼體上顯示出來，便于客戶在合適的位置上放置樣品
控制系統
氣體系統（可根據需求搭配）	流量計類型	浮子流量計				質量流量計
	管道示意圖
	進氣接口數量	2、3、4（多路可選）
	流量范圍	20-200/60-600l/min(多量程可選)				50/100/200sccm(多量程可選)
	工作壓差范圍	0-0.15MPa
低真空系統（可根據需求搭配）	真空泵型號		NBD-1.5C		NBD-3C		NBD-4C
	抽氣速率		1L/s		3L/s		4L/s
	進排氣口尺寸		Φ8mm寶塔接頭		Φ8mm寶塔接頭		KF16/25
	極限壓力		1000Pa		100Pa		10Pa
	工作溫度		5-40℃
	電氣規格		AC220V
分子泵高真空系統（可根據需求搭配）	分子泵系統型號		NBD-103(A)		NBD-103(B)		NBD-103(C)
	抽氣速率		110L/s		600L/s		700L/s
	真空測量計		復合真空計
	極限壓力		10^-3Pa		10^-4Pa		10^-5Pa
	工作溫度			5-40℃
	電氣規格			AC 220V	AC 220V			AC 380V
* 支持非標定做，更多型號，歡迎來電垂詢。