低溫等離子表面處理技術(shù)在粉體材料處理中的應(yīng)用

來(lái)源：華儀行（北京）科技有限公司      分類(lèi)：應(yīng)用方案 2024-03-11 10:00:07 284閱讀次數(shù)

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粉體等離子清洗機(jī)

Powder Plasma Cleaner

    等離子體作用在粉體上，可以有目的地改變粉體的物理、化學(xué)性質(zhì)，在保持粉體材料原有性能的前提下，賦予其表面新的性能，使其表面性質(zhì)由疏水性變?yōu)橛H水性或由親水性變?yōu)槭杷裕瑥亩纳品垠w粒子表面的浸潤(rùn)性，增強(qiáng)粉體粒子在介質(zhì)中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有機(jī)化合物中。為此CIF研發(fā)生產(chǎn)了專(zhuān)為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專(zhuān)用等離子清洗機(jī)。

主要應(yīng)用領(lǐng)域

Application Area

    硅微粉

  氫氧化鋁粉

    氧化鋁粉

無(wú)機(jī)粉體材料的表面處理

01

    目的是為了抑制粉體團(tuán)聚，提高其在聚合物中的分散性和相容性。通過(guò)對(duì)無(wú)機(jī)粉體進(jìn)行表面處理，可以顯著改善粉體與聚合物復(fù)合材料的力學(xué)、光學(xué)、電學(xué)等性能。例如，通過(guò)聚合性單體和引發(fā)氣體的混合放電，等離子體可在粉體表面引發(fā)聚合反應(yīng)，形成改性覆層，從而提升材料的綜合性能。

    石墨烯

   納米材料

       涂料

有機(jī)粉體材料的表面改性處理

02

     等離子處理可用于改善有機(jī)聚合物粉體材料的表面性能。通過(guò)使用放電氣體如氬（Ar）、氦（He）、氧氣（O2）、氮?dú)猓∟2）或空氣等，可以在不損害粉體材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)的前提下，在其表面引入活性官能團(tuán)，增加親水性，這對(duì)于粉體的后續(xù)加工和應(yīng)用至關(guān)重要。

聚合物粉體材料的表面鍵能調(diào)整

03

    由于聚合物粉體通常具有比無(wú)機(jī)粉體更弱的表面鍵能，因此更易受到等離子處理的影響。處理時(shí)間和等離子體強(qiáng)度的控制對(duì)于獲得理想的處理效果尤為重要。通過(guò)等離子處理，可以改善粉體表面的潤(rùn)濕性，提高其與粘結(jié)劑或其他材料的粘接強(qiáng)度，同時(shí)去除表面的有機(jī)污染物。

等離子表面處理在粉體材料表面功能化中的應(yīng)用

   等離子體表面處理技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)粉體材料表面的功能化，如在表面接枝、交聯(lián)、包覆等處理過(guò)程中，等離子體產(chǎn)生的活性粒子能夠與粉體表面發(fā)生反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)或改變表面結(jié)構(gòu)，從而賦予粉體材料新的表面特性。

      綜上所述，等離子體處理粉體材料是材料制備，新材料、新工藝和新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的重要方法，不僅改善了粉體材料的表面性能，而且提高了粉體材料的附加價(jià)值，擴(kuò)大了粉體材料的應(yīng)用領(lǐng)域。

   CIF專(zhuān)注材料表面處理技術(shù)，在材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線(xiàn)路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為客戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)的清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應(yīng)用工藝解決方案。目前CIF主要研發(fā)生產(chǎn)的產(chǎn)品有等離子清洗機(jī)、等離子去膠機(jī)、刻蝕機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)等產(chǎn)品。

    CIF擁有標(biāo)準(zhǔn)化廠(chǎng)房面積4100平方米，系國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，國(guó)家科技型中小企業(yè)，北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)試點(diǎn)單位，企業(yè)通過(guò)ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證、ISO14001環(huán)境管理體系認(rèn)證。擁有國(guó)家專(zhuān)利36項(xiàng)，其中，發(fā)明專(zhuān)利3項(xiàng)，實(shí)用新型專(zhuān)利29項(xiàng)，外觀(guān)專(zhuān)利6項(xiàng)，軟件著作權(quán)10項(xiàng)。

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