Vescent D2-200 DBR激光模塊
D2-200激光模塊是我們強大的分布式布拉格反射器（DBR）二極管激光器的全新設計。D2-200采用全新的虛擬點源（VPS）DBR激光器。VPS設計使用了專有的透鏡系統來減少散光，使快軸和慢軸的發散度相匹配。輸出接近高斯分布，M2值非常低。
DBR激光二極管是在二極管的增益區域附近直接刻蝕反饋光柵制成的。由于其具有無移動調諧元件的短腔結構，因此對振動和聲學干擾具有很高的抗擾性。短腔結構允許在超過25GHz的寬帶范圍內進行無模式跳躍的電流調諧，調諧速度非常快，適用于高帶寬伺服控制，便于鎖定原子和分子躍遷或對準鎖定到參考激光。
D2-200采用了兩級溫度控制，并采用了光學隔離技術，確保了長期穩定的無模式跳變運行。它還經過了設計制造性優化（DFM）流程，以減少對準誤差，使其比備受歡迎的前代產品更加可靠。
特征：
鉀，銣和銫的波長
抗振動：無運動或壓電部件
通過高帶寬注入電流進行25 GHz模式無跳頻調諧
光學隔離的光譜純度
光纖耦合配置
高速調制
100 mW at 780, 795, & 828 nm
130 mW at 852 nm
150 mW at 895 nm
技術參數：
參數 | 數值 | 單位 |
激光質量 | ||
可獲得中心波長 | 767, 770, 778, 780, 785, 795, 828, 852, 895 | nm |
線寬 | <500 | kHz |
光線直徑 | 0.9 | mm |
光線高度 | 0.95 | Inch（英寸） |
光線發散度（全角） | <1.3 | mrad |
光學隔離 | >50 | dB |
極化 | 水平 | |
偏振消光比 | >18 | dB |
功率 | ||
λ≤770 nm | 25 | mw |
778 nm≤λ≤828 nm | 100 | mw |
λ = 852 nm | 130 | mw |
λ = 895 nm | 150 | mw |
運行條件 | ||
溫度 | ~1.5 | Nm |
電流 | >25 | GHz |
其他 | ||
尺寸 | 5.87 x 3.75 x 1.71 | Inch mm |
溫度漂移 | <0.1 | mK/hr |
運行溫度范圍 | 15~30 | °C |
更多詳細信息請聯系我們~
全部評論(0條)
推薦閱讀
-
- Vescent D2-200 DBR激光模塊
- D2-200激光模塊是我們強大的分布式布拉格反射器（DBR）二極管激光器的全新設計。
-
- vescent SLICE-QTC 四通道溫度控制器
- SLICE模塊具有便捷、靈活的數字界面，可以提供高性能、高速度的模擬控制電路。
-
- vescent D2-135 偏移鎖相伺服器
- D2-135 偏移鎖相伺服 （OPLS） 設計用于精確控制和快速調整主激光器和跟隨器激光器之間的頻率失諧。
-
- Vescent頻率梳--RUBRIComb Frequency Comb
- Vescent頻率梳--RUBRIComb Frequency Comb
-
- IO模塊安裝
- 它們通過連接不同的硬件和傳感器，將信號轉換成計算機或控制器可以處理的數據，確保各個系統組件之間能夠高效協同工作。正確的IO模塊安裝不僅能提高系統的可靠性和效率，還能避免操作中的常見問題。本文將詳細介紹IO模塊安裝的步驟及相關注意事項，幫助您在安裝過程中避免常見錯誤并確保設備的長期穩定運行。
-
- IO模塊選型
- IO模塊不僅涉及硬件的性能，還關系到系統的擴展性、兼容性和穩定性。隨著工業自動化和智能制造的快速發展，IO模塊的種類繁多，如何從中挑選出適合自己需求的模塊，成為了企業工程師們面臨的一大挑戰。本文將深入探討IO模塊選型的關鍵要素，并提供一些實用的指導建議，幫助工程師和技術人員作出更加科學、合理的選擇。
-
- 總線通訊模塊原理
- 本文將深入探討總線通訊模塊的原理、工作方式及其在實際應用中的重要性。通過對總線通訊的結構和功能的解析，幫助讀者更好地理解這一技術在電子系統中所扮演的角色，以及它在不同應用場景中的優勢。
-
- 總線隔離模塊技術標準
- 隨著技術的不斷進步和需求的多樣化，總線隔離模塊的性能和標準化要求也不斷提高。本文將深入探討總線隔離模塊的技術標準，分析其設計要求、應用領域及未來發展趨勢。通過對這些標準的解讀，旨在為電子工程師和技術研發人員提供有價值的參考，確保在實際應用中實現佳的隔離效果和穩定的系統性能。
-
- 總線通訊模塊故障
- 在實際使用過程中，由于多種因素的影響，總線通訊模塊可能會出現故障，導致系統運行中斷或數據傳輸錯誤。本文將深入探討總線通訊模塊故障的常見原因，故障排除的方法，以及如何提高總線通訊系統的穩定性。
-
- 總線模塊通信模塊區別
- 本文將深入分析總線模塊和通信模塊的區別，幫助讀者更好地理解它們各自的作用及適用場景，從而做出合理的選擇和配置。
-
- IO模塊自檢原理
- 隨著生產環境和設備復雜性的增加，如何實現對IO模塊的全面監控和診斷成為優化系統性能的關鍵。本文將深入探討IO模塊自檢原理，分析其工作方式與技術實現，并討論在實際應用中的重要性和操作流程。了解IO模塊的自檢功能不僅有助于預防系統故障，還能有效提高設備的工作效率和使用壽命。
①本文由儀器網入駐的作者或注冊的會員撰寫并發布，觀點僅代表作者本人，不代表儀器網立場。若內容侵犯到您的合法權益，請及時告訴,我們立即通知作者，并馬上刪除。
②凡本網注明"來源：儀器網"的所有作品，版權均屬于儀器網，轉載時須經本網同意，并請注明儀器網(www.189-cn.com)。
③本網轉載并注明來源的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點或證實其內容的真實性，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品來源，并自負版權等法律責任。
④若本站內容侵犯到您的合法權益，請及時告訴,我們馬上修改或刪除。郵箱：hezou_yiqi
奧影檢測科技（上海）有限公司
滬公網安備 31011502008050號
參與評論
登錄后參與評論