光刻工藝中溫度均勻性對烘烤固化過程的影響，以及該如何校準溫場均勻性！

來源：武漢嘉儀通科技有限公司      分類：維修保養 2025-05-15 11:45:16 47閱讀次數

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溫度均勻性在光刻工藝中的烘烤固化過程中至關重要，它直接影響光刻膠的固化質量和最終的圖案質量。

溫度曲線控制對圖案質量的影響

在光刻膠PI固化過程中，不同類型的光刻膠PI具有特定的固化溫度曲線，一般烤箱可預設溫度曲線，而不是不是線性加熱，精確控制升溫速率、保溫時間和降溫速率。以確保固化反應均勻進行，避免因溫度變化過快導致光刻膠內部產生應力，影響圖案質量。

同時精準的溫度控制可保證晶圓各部分受熱均勻，防止因局部過熱或過冷造成晶圓變形或內部結構損壞，從而提高晶圓的良品率。

溫度均勻性對固化質量的影響

溫度均勻性對于光刻膠PI固化和半導體晶圓烘烤至關重要，因為溫度不均勻可能導致光刻膠固化程度不一致，影響光刻圖案的精度，以及使半導體晶圓內部產生應力，降低晶圓的電學性能和機械性能。

半導體制造工藝中，在真空無氧環境下均勻烘烤，光刻膠PI的固化反應更加純凈、均勻，光刻圖案的邊緣清晰度和精度得到提升，從而有助于制造出更加精細、高性能的半導體器件。

TC-Wafer校準儀對工藝溫度的校準

通過TC-Wafer校準儀可以對烘烤固化過程中溫度均勻性精準的實時測定，來輔助對設備控溫進行調整，達到合適的溫度曲線。

TC-Wafer校準儀特點：

測溫準確：溫度分辨率0.1℃、采集周期為200ms，能準確測量晶圓溫場均勻性；

顯示直觀：支持20路實時測量(可定制)，顯示實時點位圖及溫度分布圖，可在使用過程中實時觀察各點溫度變化；

使用便捷：儀器集成度高，即插即用，配備磁吸支架可貼靠于設備表面。測試記錄完整數據，并能自動生成測試報告；

功能強大：10000條歷史數據存儲量，能以圖表形式調閱歷史溫度和均勻性數據。可做同一臺設備不同時間段、以及不同設備同一配方的數據對比；

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