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繼NEPA21電轉(zhuǎn)染儀和ECFG21電融合儀受到廣大用戶高度好評(píng)后，NEPA GENE 公司又推出新一代全能型ELEPO21體外電轉(zhuǎn)儀。ELEPO21采用全新死不放程序，不僅繼承了NEPA21在動(dòng)物細(xì)胞轉(zhuǎn)染領(lǐng)域的高轉(zhuǎn)染效率和高存活率優(yōu)勢，同時(shí)引入了高壓電轉(zhuǎn)化模式，一機(jī)兩用，提高了細(xì)菌真菌酵母菌的轉(zhuǎn)化效率。仍具備操作簡單，電轉(zhuǎn)參數(shù)可見、可調(diào)，適用性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。

電轉(zhuǎn)儀應(yīng)用范圍：

高壓模式——高可達(dá)到3000V，適用于細(xì)菌、真菌、酵母菌等的電轉(zhuǎn)化。

低壓模式——溫和低電壓適用于動(dòng)植物細(xì)胞的轉(zhuǎn)染，包括普通的細(xì)胞株系，以及各種難轉(zhuǎn)染細(xì)胞（如原代細(xì)胞、干細(xì)胞、神經(jīng)細(xì)胞、

免疫細(xì)胞和血液細(xì)胞等）。

全新四步法電轉(zhuǎn)程序：

ELEPO21 仍采用四步法電轉(zhuǎn)程序，配合獨(dú)有的電壓 衰減設(shè)計(jì)，可在獲得高轉(zhuǎn)染效率的同時(shí)，提高細(xì)胞存活率。

一步：電穿孔模式

高電壓、持續(xù)時(shí)間短、多次脈沖、電壓衰減有效地在細(xì)胞膜上形成小孔，且對(duì)細(xì)胞的損傷小。

第二步：反向電穿孔模式  可反向穿孔，有效提高穿孔效率。

第三步：基因?qū)肽Ｊ?nbsp;低電壓、持續(xù)時(shí)間長、多次脈沖、自然電壓衰減設(shè)計(jì)， 幫助目標(biāo)分子（ DNA或RNA 等）進(jìn)入細(xì)胞，且對(duì)細(xì)胞 的損傷小。

第四步：反向?qū)肽Ｊ?/div>

NEPA GENE 獨(dú)有的設(shè)計(jì)，經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明可以有效地提高基因 導(dǎo)入效率。

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