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KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列
- 品牌:北京燕京電子
- 型號: UV-KUB系列
- 產地:歐洲 法國
- 供應商報價:面議
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北京燕京電子有限公司
更新時間:2023-03-06 10:34:29
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銷售范圍售全國
入駐年限第6年
營業執照已審核
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產品特點
- 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經驗,其研發的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統,結構緊湊,可以直接放置在實驗臺上,能夠處理zuida直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預熱,也不需要單獨的冷卻單元。另外,UV-KUB系列先進的設計,保證了光源的準直性和均勻性,其zui小分辨率可達2μm,zuida發散角小于2°
本系統適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。 詳細介紹
KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列
圖片
簡介
法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經驗,其研發的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統,結構緊湊,可以直接放置在實驗臺上,能夠處理最 大直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預熱,也不需要單獨的冷卻單元。另外,UV-KUB系列先進的設計,保證了光源的準直性和均勻性,其最小分辨率可達2μm,最 大發散角小于2°
本系統適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
規格參數
項目
UV-KUB 2
UV-KUB 3
最小分辨率
2 μm
2 μm
光源波長
365 nm / 385 nm / 405 nm
365 nm
能量密度
25 mW / cm2 ± 10 %
30 mW / cm2 ± 10 %
熱效應最 大升溫
< 1°C
< 1°C
曝光時間
1s~18 hours
1s~18 hours
最 大存儲程序數量
10個
無限制
對準分辨率
/
< 3 μm
外形尺寸
260 x 260 x 260 mm3
480 x 480 x 480 mm3
重量
8.2 kg
55 kg
顯示屏
彩色觸摸屏5.7 inches
彩色觸摸屏15.6 inches
功能圖解
UV-KUB 2型光刻機,是國際市場上第 一款采用UV-LED光源系統的光刻機,其配備了基于LED光源的光學頭,使用壽命大大提高,結構小巧,性價比高,非常適合實驗室應用。
UV-KUB 3是一款帶對位功能的UV-LED曝光機,光源為365nm,其觸摸屏和CCD相機代替了傳統的顯微鏡及雙筒目鏡,控制器提供了圖像捕獲、測量以及對齊坐標的記錄等功能,可以實現預對準,這樣,用戶再通過操作手柄便能方便的進行的對準操作。
UV-KUB 2
UV-KUB 3
應用系統
微流控芯片
MEMS器件
技術資料