VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是zuixin研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

主要特點

1、配置兩個靶槍，一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個為配套直流電源用于導電類材料的濺射鍍膜。

2、可制備多種薄膜，應用廣泛。

3、體積小，操作簡便。

技術參數

1、電源電壓：220V 50Hz

2、總功率：2KW

3、極限真空度：< ?E-6mbar（配合本公司設備使用可達到?E-5mbar）

4、工作溫度：室溫-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度）

5、靶槍數量：2個（可選配其他數量）

6、靶槍冷卻方式：水冷

7、靶材尺寸：Φ2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）

8、直流濺射功率：500W（可選）

9、射頻濺射功率：300W/500W（可選）

10、載樣臺：Φ140mm

11、載樣臺轉速：1-20rpm內可調

12、保護氣體：Ar、N₂等惰性氣體

13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM

產品規格

主機尺寸：500mm×560mm×660mm

整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm

重量：160kg

標準配件

1、直流電源控制系統

2、射頻電源控制系統

3、膜厚監測儀系統

4、分子泵（德國進口）

5、冷水機

6、冷卻水管（Φ6mm）

7、靶材（不銹鋼靶、陶瓷靶）

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材