概述：

 隨著科學技術的日益進步和發展，在國民經濟的許多部門，如能源、動力、機械、醫藥、化工、輕工、冶金、建材等行業中都出現了越來越多的細微顆粒密切相關的技術問題有待解決，顆粒粒徑大小的測量是其中最基本也是最重要的一個方面。許多情況下，顆粒粒徑大小不僅直接影響到產品的性能與質量，而且對工藝過程的優化、能源消耗的降低、環境污染的減少等都有重大的關聯。 近年來，與高新尖端技術、國防工業、軍事科學等密切相關的各種新型顆粒材料，特別是超細納米顆粒的問世和利用，給顆粒粒徑的測量提出了新的和更高的要求，不但要求快速、自動化數據處理、而且也要求提供可靠的更豐富的數據和更有用的信息，以滿足科研領域和工業質量控制方面應用的需要。TS-W系列激光粒度分析儀正是為了滿足用戶上述新要求而精心研制開發的最新一代激光粒度分析儀。該儀器集先進激光技術、半導體技術、光電技術、微電子技術和計算機技術的應用，綜合了光、機、電、計算機于一體，以光散射理論為基礎的顆粒粒徑測量技術突出的優點逐步取代了一些傳統的常規測量方法，必將成為一代新穎的顆粒粒徑測量儀器。并且在科研領域和工業質量控制的粒度分布分析中發揮著越來越大的作用。

TS-W系列激光粒度分析儀的高品質和所測樣品的廣泛性使得它在實驗室的實驗研究和工業生產的質量控制等諸多領域中得到了廣泛的應用。例如：材料、化工、制藥、精細陶瓷、建材、石油、電力、冶金、食品、化妝品、高分子、油漆、涂料、碳黑、高嶺土、氧化物、碳酸鹽、金屬粉末、耐火材料、添加劑等以顆粒物作為生產原材料、產品、中間體等。

技術特點：

1.     獨特的半導體制冷恒溫控制綠色固體激光器做光源，波長短、體積小、工作穩定、壽命長；

2.     獨特設計大直徑光靶，保證測量范圍大，0.1-1000微米全測量范圍內不需要更換鏡頭或移動樣品池；

3.     集多年研究之成果，米氏理論的完美應用；

4.     獨特反演算法，保證顆粒測量的準確；

5.     USB接口，儀器與計算機一體化，內嵌10.8寸工業級別的電腦，可連接鍵盤、鼠標、U盤

6.     測量時循環樣品池或固定樣品池可選，兩者可根據需要換用；

7.     樣品池模塊化設計，更換模塊可實現不同的測試模式；循環樣品池內置超聲分散裝置，可有效分散團聚顆粒

8.     樣品測量可完全自動化，除添加樣品外，只要連接好蒸餾水進水管和排水管，進水、測量、排水、清洗，啟動超聲分散裝置等操作可完全自動進行，同時也提供手動測量菜單；

9.     軟件個性化，提供測量向導等眾多功能，方便用戶操作；

10.   測量結果輸出數據豐富，保存在數據庫中，能用任意參數，如操作者姓名，樣品名，日期，時間等進行調用分析，與其他軟件實現數據共享；

11.   儀器造型美觀，體積小重量輕；

12.   測量精度高，重復性好，測量時間短；

13.   軟件提供眾多物質折射率供用戶選擇，滿足用戶查找被測顆粒折射率要求；

14.   考慮到測試結果的保密要求，只有授權操作者才能進入相應數據庫讀取數據和處理；

15.   本儀器符合但并不局限于以下標準：

ISO 13320-2009     G/BT 19077.1-2008 粒度分析 激光衍射法

技術參數：

1.   理論依據:Mie散射理論

2.   粒徑測量范圍:0.1-200um

3.   光源:半導體制冷恒溫控制紅光固體激光光源，波長635nm

4.   重復性誤差:<1%（標準D50偏差）

5.   測量誤差:<1%（標準D50偏差，用國家標準顆粒檢驗）

6.   檢測器:32或48或64或更高通道硅光電二極管

7.   樣品池:滴樣法樣品池10mL；循環樣品池（500mL內置超聲分散、攪拌裝置）

8.   測量分析時間：正常條件下小于1分鐘（從開始測量到顯示分析結果）

9.   輸出內容：體積、數量微分分布和累積分布表和圖表；多種統計平均直徑；操作者信息；實驗樣品信息、分散介質信息等。

10. 顯示方式：內嵌10.8寸工業級別的電腦，可連接鍵盤、鼠標、U盤

11. 電腦系統：WIN 10系統，30GB硬盤容量、2GB系統內存

12. 電源：220V，50 Hz

工作條件：

l  1.室內溫度：15℃-35℃

l  2.相對溫度：不大于85%（無冷凝）

l  3.建議用交流穩壓電源1KV，無強磁場干擾。

l  4.由于在微米級的范圍內的測量，儀器應放在堅固可靠、無振動的工作臺上，并且在少塵條件下進行測量。

l  5.儀器不應放在太陽直射、風大或溫度變化大的場所。

l  6.設備必須接地，保證安全和高精度。

7.室內應清潔、防塵、無腐蝕性氣體。