營業(yè)執(zhí)照未審核
●SVT SMART（Scientific Materials and Applied Research Tool）脈沖激光沉積系統(tǒng)具有duyi無二的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術（如RF源）集成于一臺設備上。可以生長各種可能的材料。
●配有6個旋轉靶臺，實現(xiàn)多層薄膜結構生長。
●可與準分子激光和Yag激光相連。
●在線監(jiān)控儀器做為可選件，為客戶提供高質量的工藝信息反饋。
●裝載室不但可以裝取樣品，還可以與其他生長設備或分析設備相連。
應用
●多元素復合氧化物
●高溫超導材料
●磁性材料、金屬材料
●低蒸汽壓材料
●MEMS
基本系統(tǒng)
腔室及真空泵
12’’ 快速門，250l/s 分子泵，全量程規(guī)
沉積源
靶臺，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋轉，
可Z方向移動
樣品臺
1’’(25mm)大小，可加熱至800oC（1000oC可選），可水平旋轉，可Z方向移動
在線工藝監(jiān)控
石英晶振沉積速率監(jiān)控儀
自動化
自動化裝置：
控制樣品溫度和旋轉
靶臺的位置控制
靶臺旋轉
氣體控制
速率及厚度計算（利用QCM輸出）
激光束掃描（可選）
激光束屏蔽控制
自動泵抽和充氣
差分泵抽結構
RHEED分析（可選）
裝載室壓強監(jiān)控（可選）
主要特點
RF射頻等離子源(氧,氮)
升級高真空
增加進樣室
升級為Laser-MBE （L-MBE）系統(tǒng)
自動軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長環(huán)境,wan美的溫度控制解決方案.
報價：面議
已咨詢2345次
報價：面議
已咨詢69次沉積設備
報價：面議
已咨詢2013次德國 Sentech
報價：面議
已咨詢202次化學氣相沉積（PECVD）
報價：面議
已咨詢163次脈沖激光沉積系統(tǒng)
報價：面議
已咨詢1958次脈沖激光沉積系統(tǒng)
報價：面議
已咨詢1753次脈沖激光沉積系統(tǒng)
報價：面議
已咨詢1631次脈沖激光沉積系統(tǒng)
1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數(shù)任意調節(jié)，對靶材的種類沒有限制； 4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數(shù)任意調節(jié)，對靶材的種類沒有限制； 4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。
脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD 型號：AP-PLD230 脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構造的人工合成薄膜材料。 我們PLD系統(tǒng)擁有Z好的性能價比, 用戶用Z少的錢買到研究級高性能的純進口PLD系統(tǒng)。
脈沖激光沉積是一種真空鍍膜技術。
基質輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團新引入的技術，以促進某些功能有機材料的薄膜沉積。基于UV (5-6 eV)的傳統(tǒng)PLD技術中，光化學反應可能會惡化有機分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通過將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質)混合來制備特殊的靶。除了光學吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質的先決條件。
關注微信公眾號
微信小程序
分享
收藏
滬公網安備 31011502008050號