儀器簡介：EPIC離子/分子分析質譜儀(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是帶脈沖離子計數和四級桿偏壓控制的三級過濾四極質譜儀，用于高精密科學分析，過程研究以及中性粒子、自由基、正負離子的UHV分析。

EPIC離子/分子分析質譜儀可增加能量過濾器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器，升級至Hiden的Plasma/ SIMS系列EQP，EQS，PSM 和Maxim。

主要特點：6、9、12 mm 直徑的四極桿可選

±100 eV離子能量分布，1000 eV可選

離子源控制，以實現軟離子化及表觀電勢質譜

脈沖離子計數器，連續7個數量級動態范圍，Faraday 選項為5x10¹⁰

一級過濾處增加射頻，增強抗污染物能力

信號選通分辨率0.1μs，用于能量、質量分布隨時間變化或TOF研究中

程序升溫脫附時，溫度數值同步顯示

標配UHV罩，液氮冷卻罩可選

MASsoft專業軟件控制

可升級至Plasma/ SIMS 配置

技術規格： 質量數范圍： 1～300 amu（標準配置）

500、1000、2500 amu（選配）

測量速度： 500 points/s

分辨率： 0.1% Valley、1% Valley

動態范圍： 10⁷

zuidi檢測分壓： 5 X 10^-15 mbar ，1X10^-16 mbar

離子能量： ±100eV（標準配置）

±1000eV（選配）

信號選通分辨率：0.1μs

穩定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%

3F Series Mass Spectrometers (0.68MB)

Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)