SU-8 2000光刻膠通常用常規的UV(350-400 nm)輻射曝光,盡管建議使用i-line(365 nm)波長。 SU-8 2000也可能會受到電子束或X射線輻射的照射。 曝光后,交聯在兩個步驟中進行(1)在曝光步驟中形成強酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步驟中進行酸催化的熱驅動環氧交聯。 正常過程是:旋涂,軟烤,曝光,PEB,然后顯影。
SU-8 2000功能
?高縱橫比成像
?單層涂膜厚度為0.5至> 200mm
?改善涂層性能
?更快干燥以提高產量
?近紫外線(350-400 nm)處理
?垂直側壁
硬烤(固化)
SU-8 2000具有良好的機械性能。但是,對于要保留成像的抗蝕劑作為設備一部分的應用,可以將硬烘烤結合到該過程中。通常僅在設備或零件在正常運行期間要進行熱處理時才需要這樣做。添加了硬烘烤或固化步驟,以確保SU-8 2000的性能在實際使用中不會改變。 SU-8 2000是一種熱敏樹脂,因此暴露于比以前高的溫度下,其性能會不斷變化。我們建議使用的烘烤溫度要比設備的預期工作溫度高10°C。根據所需的固化程度,通常使用的烘烤溫度范圍為150°C至250°C,烘烤時間為5至30分鐘。注意:硬烘烤步驟還可用于對顯影后可能出現的任何表面裂紋進行退火。建議的步驟是在150°C下烘烤幾分鐘。這適用于所有膜厚度
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PMT-2光刻膠激光顆粒計數器,采用英國普洛帝核心技術創新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,雙精準流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統,可以對清洗劑、半導體、超純水、電子產品、平板玻璃、硅晶片等產品的在線或離線顆粒監測和分析,目前是英國普洛帝分析測試集團向水質領域及微納米檢測領域的重要產品。
PMT-2液體顆粒計數儀采用英國普洛帝核心技術創新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,雙JZ流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統,可以對清洗劑、半導體、超純水、電子產品、平板玻璃、硅晶片等產品的在線或離線顆粒監測和分析,目前是英國普洛帝分析測試集團向水質領域及微納米檢測領域的重要產品。
SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。
SU-8 2000是一種高對比度,基于環氧的光致抗蝕劑,設計用于微加工和其他微電子應用,需要厚,化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。
在線優勢:清洗劑、半導體、超純水、電子產品、平板玻璃、硅晶片等產品的在線顆粒監測和分析,都是PMT-2微納米監測儀的經典應用場所,并為生產線上的重要組成部分。在線、實時、連續取樣、報警提示,能夠即時掌握顆粒污染診斷和趨勢。 離線優勢:移動測量和固定測量顆粒大小及多少雙模式,解決連續跟蹤監測的生產過程難題,無論您是即時測量還是清潔跟蹤監測,都會為您提供完善的測試方案,讓您的測試更加快捷。