一、整機方案
低溫恒溫攪拌反應浴DHJF-4005A整套裝置由制冷系統、加熱系統、循環系統及控制系統等組成。
1.1 制冷系統
制冷系統由壓縮機、冷凝器、蒸發器及膨脹閥等組成。
壓縮機:采用恩布拉科全封閉活塞壓縮機,載熱體99℃時,壓縮機可啟動,快速降溫。
冷凝器:采用風冷翅片式冷凝器,內部采用無氧紫銅螺紋管,換熱效率高,易清理,維護方便。
節流機構:采用DANFOSS熱力膨脹閥,由感溫元件、閥芯組成,通過制冷劑的過熱度自動調節制冷劑流量。
蒸發器:采用304不銹鋼盤管式蒸發器,換熱效率高;蒸發器安裝在儲液槽內,載冷劑凍結時不會損壞蒸發器。
1.2 加熱系統
采用外置的304不銹鋼管狀電加熱器,技術指標符合JB/T 4088規定。附帶單獨的機械式超溫保護。
1.3 循環系統
采用耐高低溫屏蔽泵輸送載冷劑,儲液槽及循環管路采用304不銹鋼,防腐蝕、防低溫液體污染。
1.4 控制系統
溫度控制采用PID算法,控溫精度高;用戶可編制5段應用程序,實現多段程序控制。顯示器采用液晶顯示屏,操作方便。通訊采用RS485接口,遵循MODBUS RTU 協議
二、低溫恒溫攪拌反應浴DHJF-4005A主要技術參數
產品名稱 | 低溫恒溫攪拌反應浴 | |
產品型號 | DHJF-4005A | |
儲液槽容積 (L) | 5 | |
使用溫度范圍 (℃) | -40~99 | |
顯示精度(℃) | 0.01 | |
溫度穩定性 (℃) | ±0.2 | |
加熱功率 (W) | 1500 | |
整機功率 (W) | 2450 | |
保護功能 | 過載、過電流 、超溫、漏電、超壓保護 | |
制冷劑 | R404A | |
﹡制冷量(W) | 90℃ | 1100 |
10℃ | 720 | |
-10℃ | 640 | |
-20℃ | 500 | |
-30℃ | 310 | |
-40℃ | 150 | |
循環泵 | 功率 (W) | 100 |
流量 (L/min) | 20 | |
壓力 (bar) | 0.4 | |
磁力攪拌 | 功率(W) | 50 |
轉速(rpm) | 100-1000 | |
環境溫度范圍 (℃) | 5~35 | |
環境相對濕度 | ≤ 70% | |
電源 | 220V~, 50Hz | |
外循環接口尺寸 | Rc1/2 | |
開口尺寸(mm) | Ф210 | |
儲液槽尺寸(mm) | Ф250×130 | |
可放置燒瓶容積(mL) | 2000(自備) | |
儲液槽材質 | 304不銹鋼 | |
外形尺寸(mm) | 385W×560D×735H | |
凈重(kg) | 60 | |
* 測試環境工況:環境溫度為25℃ |
鄭州長城科工貿有限公司創立于1988年,是一家集研究、開發、制造、經營于一體的科技創新型企業。公司秉持“質量為先、創新致遠、客戶為重、誠信永恒”的理念,長期為化學、生物、制藥等多領域提供專業裝置,產品不僅服務于國內眾多高校、科研院所及企業,還遠銷亞、歐、美、澳四大洲。公司擁有10000余平米生產車間,以匠心工藝和嚴格檢測把控產品,專業研發團隊聯合高校資源深耕科技創新,可根據客戶需求提供定制及專屬解決方案。
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低溫恒溫攪拌反應浴DHJF-4005A向外部提供恒溫冷源或者作為恒溫槽使用,適用于化學、生物、物理檢測等行業實驗室以及大學、科研院所實驗室,用于冷卻、加熱燒瓶、試管等反應容器,也可以向其他設備提供冷熱源。
ZTM密閉制冷加熱循環裝置向外部提供熱源或冷源,適用于制藥、化工、生物、新材料等行業,應用于反應釜的溫度控制、材料測試中的溫度控制、工藝過程中溫度變化模擬控制、半導體設備的溫度控制、新能源電池包熱測試平臺的溫度控制、真空室的溫度控制等。
DLSB系列低溫冷卻液循環泵利用壓縮機制冷,循環泵輸送功能提供冷源??捎糜诶鋮s試管、反應瓶等,滿足低溫反應或儲存的條件。
調速玻璃反應釜GR-5主要用于物料合成、蒸餾、濃縮等實驗。釜體結構分為單層、雙層及三層三種類型。根據需要可將釜內抽至負壓狀態,滿足實驗條件。
旋轉蒸發儀R-3001適用于蒸發、蒸餾及分離化學品實驗。可與真空泵、循環冷卻器組成配套系統,滿足實驗和生產條件。
SHB-III循環水式多用真空泵適用于蒸發、蒸餾及分離化學品實驗。可與旋轉蒸發儀、循環冷卻器組成配套系統,滿足實驗和生產條件。體積小,重量輕,移動方便;流體消聲器可減少水中氣體和氣液摩擦,降低噪聲;雙抽頭、雙表顯,可單獨或并聯使用。
DL249循環冷卻器是一款可降溫、恒溫、升溫的循環冷卻器,用于輸送循環載熱體,提供恒溫源,整機由制冷系統、循環系統及控制系統等組成。
DLSB-5/20低溫冷卻液循環泵是一款可向外部提供冷源的設備,能夠滿足低溫反應條件,適用于制藥、化工、生物等行業,以及各大學、科研院所的實驗室。 其應用場景廣泛,可用于旋轉蒸發儀冷凝器的冷卻,材料測試中的溫度控制,工藝過程中溫度變化的模擬控制,半導體設備的溫度控制,激光器的冷卻等;同時,也可作為冷凍槽,用于冷卻試管、反應瓶等容器。