Micro-g光學平臺支撐系統是我們CleanTo,p光學平臺和面包板的理想匹配。多種配置選項可選配，包括不同高度、不同重量能力和不同隔振性能。

大多數Micro-g建議使用拉桿支撐體系，但是對于那些超過10英尺(3米)長的光學平臺，我們建議使用六柱支撐體系。除了會擁有更高的負載能力，光學平臺的結構通過附加的支撐點得到穩定增強。

可提供Gimbal Piston /MaxDampB/UltraDampTM三個阻尼/隔振級別的隔振支撐系統模塊。可針對性的選擇*大的振動衰減效率或*大的阻尼效果，以適應不同客戶的不同需求偏向，如動態負載、機器人運動等情況。

隔振效率曲線對比(左：垂直方向，右：水平方向)

*大動態響應時間

森泉為您的科研事業添磚加瓦：

激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設備與系統等等

探測器：光電探測器、單光子計數器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統等等

定位與加工：納米定位系統、微納運動系統、多維位移臺、旋轉臺、微型操作器等等

光源：半導體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

光機械件：用于光路系統搭建的 gao 品 zhi 無應力光機械件，如光學調整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等

光學平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等

光學y件：各類晶體、光纖、偏轉鏡、反射鏡、tou射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等

染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發光染料、吸收染料等等