產品簡介

通過優化PLD薄膜沉積速率和離子刻蝕速率，新瓷離子輔助PLD系統被用于在非晶或多晶基底上創建雙軸織構模板(薄膜)。雙軸織構通常是在室溫下進行的，這有利于使用許多襯底，否則不允許高質量的薄膜生長。氧化釔穩定的氧化鋯(YSZ)和相關材料，氧化鎂(MgO)是最常用的織構材料。離子輔助PLD最初被提議用于在金屬基底上沉積雙軸織化高溫超導YBCO薄膜，它可以擴展到許多技術上重要的基底，其中表面織化對應用至關重要。在沉積雙軸紋理模板后，活性器件層，如YBCO, PZT, CIGS等可以在應用程序確定的高溫下沉積。離子輔助PLD可以被看作是在沉積參數空間不足的情況下，在襯底和活性膜之間發展智能界面的一種方法。在許多應用中，薄膜襯底組合對于器件的應用是至關重要的。然而，如果所選的襯底不允許高質量的薄膜生長，則可能有必要開發一種能夠克服襯底結構和化學不相容的智能界面。離子輔助PLD可以通過改變成核過程或生長動力學來創建氧化物或金屬的界面。

離子輔助沉積已經成為在無規取向的基片或非晶襯底上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。Neocera 開發了離子輔助的 PLD 系統，該系統將 PLD 在沉積復雜材料方面的優勢與 IBAD 能力結合在一起。

產品特點

獨立的交鑰匙離子束輔助PLD系統。

在非晶和多晶襯底上沉積雙軸織構模板。

外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積。

用RHEED診斷法沉積織構MgO薄膜。

氧化膜沉積的氧相容性。