邀請函：KRüSS誠邀您參加Productronica慕尼黑上海電子生產(chǎn)設(shè)備展

來源：克呂士科學(xué)儀器（上海）有限公司      分類：動態(tài) 2025-03-24 15:45:13 61閱讀次數(shù)

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展會信息

慕尼黑上海電子生產(chǎn)設(shè)備展（productronica China）每年3月舉辦，是亞洲電子制造行業(yè)前沿展會。展會聚焦精密電子生產(chǎn)設(shè)備和制造組裝服務(wù)，展示電子制造核心科技。

KRüSS將在此次展覽中將全面展示我們的全自動液滴形狀分析儀DSA100、便攜式液滴形狀分析儀MSA、便攜式動態(tài)表面張力儀BPT等產(chǎn)品。現(xiàn)場，我們專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊將與您分享我們最新的功能模塊和解決方案。

此次展會，克呂士中國很榮幸與普思瑪中國聯(lián)合參展。普思瑪中國，作為常壓等離子表面處理技術(shù)的領(lǐng)先供應(yīng)商，將在展會上展示其最新的Openair-Plasma?常壓等離子技術(shù)REDOX-Tool系統(tǒng)。

我們歡迎您蒞臨展臺,交流參觀,探討更多應(yīng)用場景與解決方案的可能性。

KRüSS誠邀您參加Productronica

慕尼黑上海電子生產(chǎn)設(shè)備展

展會時間：2025.3.26 - 28

展位號：W1-1702

展會地址：上海新國際博覽中心

解決方案

晶圓的質(zhì)量控制

接觸角測量可對晶圓進(jìn)行非破壞性測試，檢測晶圓表面的清潔度和監(jiān)控質(zhì)量的均勻性。即使表面結(jié)構(gòu)發(fā)生了微小的變化，接觸角也會靈敏的反映出來。

KRüSS的DSA100W液滴形狀分析儀在定義的測量位置（“繪圖”）基礎(chǔ)上，進(jìn)行一系列全自動測量。不同位置接觸角的測量結(jié)果可反映樣品的均一性或不同區(qū)域之間的差異。

光刻膠的潤濕性

晶圓表面和光刻膠之間的接觸特性尤為重要，尤其是旋涂光刻膠的工藝過程，潤濕性影響了光刻膠在晶圓上的分布。

浸沒式光刻過程中，光刻膠表面和水的潤濕性也尤為關(guān)鍵。曝光時水在晶圓表面形成動力學(xué)接觸角，前進(jìn)角和后退角的控制對曝光質(zhì)量也會產(chǎn)生很重要的影響。

KRüSS的DSA系列液滴形狀分析儀可以系統(tǒng)的分析光刻膠在晶圓表面的靜態(tài)接觸角，或者使用傾斜臺的方法，測試水在光刻膠表面的動態(tài)接觸角。

濕電子化學(xué)品的質(zhì)量監(jiān)控

表面張力決定了濕電子化學(xué)品在固體表面的鋪展能力，較低的表面張力使液體能夠更好地潤濕固體表面，實現(xiàn)均勻覆蓋。而接觸角越小，說明液體在固體表面的潤濕性越好，直觀地了解濕電子化學(xué)品與固體表面的親和程度。

電子元器件和密封劑間的潤濕和粘附

為了保護(hù)成品印刷電路板免受環(huán)境影響，必須用密封劑對組件進(jìn)行封裝。除了良好的潤濕性，組件和密封劑高強(qiáng)度的粘結(jié)和低界面張力也是保證封裝穩(wěn)定性的必要條件。通過KRüSS的接觸角測量儀測量組件和密封劑的表面能和極性來判斷兩者之間的潤濕和粘附。

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