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- 1040197145cc 2010-07-07 00:00:00
- 靶材運用：荷能粒子（例如氬離子）轟擊固體表面，引起表面各種粒子，如原子、分子或團束從該物體表面逸出的現象稱“濺射”。在磁控濺射鍍膜中，通常是應用氬氣電離產生的正離子轟擊固體（靶），濺出的中性原子沉積到基片（工件）上，形成膜層，磁控濺射鍍膜具有“低溫”和“快速”兩大特點。 QQ:10213735
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