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- 酷酷坤坤ok 2017-06-03 00:00:00
- 熒光顯微鏡(Fluorescence microscope) : 熒光顯微鏡是以紫外線為光源, 用以照射被檢物體, 使之發出熒光, 然后在顯微鏡下觀察物體的形狀及其所在位置。熒光顯微鏡用于研究細胞內物質的吸收、運輸、化學物質的分布及定位等。 細胞中有些物質,如葉綠素等,受紫外線照射后可發熒光;另有一些物質本身雖不能發熒光,但如果用熒光染料或熒光抗體染色后,經紫外線照射亦可發熒光,熒光顯微鏡就是對這類物質進行定性和定量研究的工具之一。 激光掃描共聚焦熒光顯微鏡(laser scanning confocal microscopy,LSCM)是一種利用計算機、激光和圖像處理技術獲得生物樣品三維數據、目前Z先進的分子細胞生物學的分析儀器。主要用于觀察活細胞結構及特定分子、離子的生物學變化,定量分析,以及實時定量測定等。
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激光共聚焦顯微鏡,簡稱CLSM(Confocal Laser Scanning Microscopy),是一種利用激光共振效應進行成像的顯微鏡。它通過使用激光束掃描樣品的不同層面,將所得到的圖像合成成一幅清晰的三維圖像。與傳統顯微鏡相比,激光共聚焦顯微鏡具有更高的分辨率和更強的穿透能力,可以觀察到更加細微的結構和更深層次的物質。
在活體熒光物質的檢查中,激光共聚焦顯微鏡發揮了重要的作用。通過標記活體細胞或組織的特定結構或分子,激光共聚焦顯微鏡可以實時觀察到這些結構或分子的活動和分布情況。
在生物醫學領域,它可以用于觀察細胞的生長、分裂和死亡過程,研究細胞信號傳導和分子交互作用等。在藥物研發中,它可以用于觀察藥物在活體細胞或組織中的分布情況,評估藥物的療效和毒性。此外,在神經科學領域,激光共聚焦顯微鏡可以用于觀察神經元的活動和連接,揭示大腦的工作機制。
NCF950激光共聚焦顯微鏡較寬場熒光顯微鏡的優點:
l 能夠通過熒光標本連續生產薄(0.5至1.5微米)的光學切片,厚度范圍可達50微米或更大。(主要優點)
l 控制景深的能力。
l能夠從樣品中分離和收集焦平面,從而消除熒光樣品通常看到的焦外“霧霾",非共焦熒光顯微鏡下無法檢測到。(最重要的特點)
l 從厚試樣收集連續光學切片的能力。
l 通過三維物體收集一系列圖像,用于二維或三維重建。
l收集雙重和三重標簽,精確的共定位。
l 用于對在不透明的圖案化基底上生長的熒光標記細胞之間的相互作用進行成像。
l 有能力補償自發熒光。
耐可視共聚焦成像效果圖 尼康共聚焦成成像效果圖
NCF950激光共聚焦顯微鏡應用,共聚焦顯微鏡在以下研究領域中應用較為廣泛:
1、細胞生物學:細胞結構、細胞骨架、細胞膜結構、流動性、受體、細胞器結構和分布變化、細胞凋亡;
2、生物化學:酶、核酸、FISH、受體分析
3、藥理學:藥物對細胞的作用及其動力學;
4、生理學:膜受體、離子通道、離子含量、分布、動態;
5、遺傳學和組胚學:細胞生長、分化、成熟變化、細胞的三維結構、染色體分析、基因表達、基因診斷;
6、神經生物學:神經細胞結構、神經遞質的成分、運輸和傳遞;
7、微生物學和寄生蟲學:細菌、寄生蟲形態結構;
8、病理學及病理學臨床應用:活檢標本的快速診斷、腫瘤診斷、自身免疫性疾病的診斷;
9、生物學、免疫學、環境醫學和營養學。
NCF950激光共聚焦顯微鏡配置
NCF950激光共聚焦配置表
激光器
激光405 nm、488 nm、561 nm、640 nm
探測器
波長:400-750nm,探測器:3個獨立的熒光檢測通道;1個DIC透射光檢測通道
掃描頭
最大像素大小:4096 x 4096 掃描速度:2 fps(512 x 512像素,雙向),18 fps(512 x 32像素,雙向),圖像旋轉: 360°
掃描模式
X-T, Y-T, X-Y, X-Y-Z, X-Y-Z-T
針孔
無級變速六邊形電動針孔;調節范圍:0-1.5毫米
共焦視場
φ18mm內接正方形
圖像位深
12bits
配套顯微鏡
NIB950全電動倒置顯微鏡
光學系統
NIS60無限遠光學系統(F200)
目鏡(視野)
10×(25),EP17.5mm,視度可調-5~+5,接口Φ30
觀察鏡筒
鉸鏈式三目觀察鏡筒,45度傾斜,瞳距47-78mm,目鏡接口Φ30,固定視度;1)目/攝切換:(100/0,50/50,0/100);2)目視/關閉目視/可調焦勃氏鏡
NIS60物鏡
10×復消色差物鏡,NA=0.45 WD=4.0 蓋玻片=0.17
20×復消色差物鏡,NA=0.75 WD=1.1 蓋玻片=0.17
60×半復消色差物鏡,NA=1.40 WD=0.14 蓋玻片=0.17 油鏡
100×復消色差物鏡,NA=1.45 WD=0.13 蓋玻片=0.17 油鏡
物鏡轉換器
電動六孔轉換器(擴展插槽),M25×0.75
聚光鏡
6孔位電動控制:NA0.55,WD26;相襯(10/20,40,60選配)
DIC(10X,20X/40X)選配.空孔
照明系統
透射柯拉照明,10W LED照明;
落射照明:寬場光纖照明
6孔位電動熒光轉盤(B,G,U標配);電動熒光光閘;中間倍率切換
手動1X,1.5X、共焦切換
機身端口
分光比:
左側:目視=100:0;右側:目視=100:0;
平臺
電動控制:行程范圍130 mm x100 mm (臺面325 mm x 144 mm )最大速度:25mm/s;分辨率:0.1μm - 重復精度:3μm。機械可調樣品夾板
調焦系統
同軸粗微動升降機構,行程:焦點上7下2;粗調2mm/圈,微調0.002mm/圈;可手動和電動控制,電動控制時,最小步進0.01um;
DIC插板
10X,20X,40X插板;可放置于轉換器插槽;選配
控制
搖桿,控制盒,USB連接線
軟件
軟件:NOMIS Advanced C
圖像顯示/圖像處理/分析
2D/3D/4D圖像分析,經時變化分析,三維圖像獲得及正交顯示,圖像拼接,多通道彩色共聚焦圖像
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標題:電壓表5倍
電壓表5倍是指電壓表的測量能力,可以承受并測量大為其標稱范圍5倍的電壓。對于電氣設備的安全使用以及電力系統的維護工作,電壓表是不可或缺的重要工具。本文將探討電壓表5倍的意義、原理及其在實際應用中的重要性,幫助讀者更好地理解電壓表的選擇與使用。
電壓表作為測量電壓的儀器,廣泛應用于電力系統、電子設備、實驗室測試等領域。它主要用于測量電路中的電壓大小,并通過指針或數字顯示出電壓值。在選擇電壓表時,除了要考慮其測量范圍、精度等參數外,額定電壓與過載能力也是十分重要的指標。通常,電壓表的額定電壓是其能夠長時間穩定測量的大電壓,而“5倍”則指的是電壓表可以在短時間內承受的高電壓,不會因過載而損壞儀器。
電壓表5倍的設計標準來源于電氣設備的安全性考慮。電氣設備在工作過程中可能會出現瞬間的電壓波動,而這些波動的電壓往往會超出設備的額定電壓范圍。如果電壓表能夠承受5倍的電壓,它便能有效地保護自己不被這些瞬間的過電壓所損壞,確保測試的持續性和儀器的穩定性。通過這種設計,電壓表不僅可以用于常規的電壓測量,還能夠在突發情況下進行短時測量,保障測量結果的準確性和可靠性。
具體來說,電壓表的5倍過載能力通常意味著它能夠短時間內承受比額定電壓高5倍的電壓。例如,一款額定電壓為100V的電壓表,它的大承載電壓就是500V。這種設計可以有效防止因外部電壓過高而導致電壓表損壞,特別是在電氣系統中出現短路或電壓沖擊時,電壓表能夠依然正常工作,而不會因為過載而失效。
需要注意的是,雖然電壓表可以承受5倍額定電壓的沖擊,但這種過載能力通常是短暫的,一般不應持續超過幾秒鐘。長時間的過載不僅會對電壓表造成損害,還可能影響測量的準確性。因此,在使用電壓表時,要遵循其使用說明,并盡量避免超過其額定電壓范圍的操作。
在實際應用中,電壓表的5倍過載能力為電力工程師和技術人員提供了更加靈活的操作空間。無論是在調試電氣設備、檢測電力系統故障,還是進行實驗室測試,電壓表都能發揮其作用。特別是在處理可能發生電壓波動的系統時,電壓表能夠提供及時的讀數,并確保安全使用。
總結來說,電壓表5倍的設計為電氣系統的穩定性和安全性提供了可靠保障。在選購電壓表時,了解其過載能力是非常重要的,它不僅關系到儀器的使用壽命,還直接影響到測量過程中的安全性和準確性。電壓表作為電力系統中的核心工具,其技術參數的合理選擇至關重要。
- 基于共聚焦顯微技術的顯微鏡和熒光顯微鏡的區別
熒光顯微鏡主要應用在生物領域及醫學研究中,能得到細胞或組織內部微細結構的熒光圖像,在亞細胞水平上觀察諸如Ca2+ 、PH值,膜電位等生理信號及細胞形態的變化,是形態學,分子生物學,神經科學,藥理學,遺傳學等領域中新一代強有力的研究工具。
以共聚焦技術為原理的共聚焦顯微鏡,是用于對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量的檢測儀器。
材料科學的目標是研究材料表面結構對于其表面特性的影響。因此,高分辨率分析表面形貌對確定表面粗糙度、反光特性、摩擦學性能及表面質量等相關參數具有重要意義。共焦技術能夠測量各種表面反射特性的材料并獲得有效的測量數據。
VT6000共聚焦顯微鏡基于共聚焦顯微技術,結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等,可以對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,實現器件表面形貌3D測量。在材料生產檢測領域中能對各種產品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。
應用
1.MEMS
微米和亞微米級部件的尺寸測量,各種工藝(顯影,刻蝕,金屬化,CVD, PVD,CMP等)后表面形貌觀察,缺陷分析。
2.精密機械部件,電子器件
微米和亞微米級部件的尺寸測量,各種表面處理工藝,焊接工藝后的表面形 貌觀察,缺陷分析,顆粒分析。
3.半導體/ LCD
各種工藝(顯影,刻蝕,金屬化,CVD,PVD,CMP等)后表面形貌觀察, 缺陷分析 非接觸型的線寬,臺階深度等測量。
4.摩擦學,腐蝕等表面工程
磨痕的體積測量,粗糙度測量,表面形貌,腐蝕以及亞微米表面工程后的表面形貌。
- 與普通熒光顯微鏡相比激光共聚焦優勢在哪
- 掃描電鏡怎么聚焦
掃描電鏡怎么聚焦
掃描電鏡(SEM,Scanning Electron Microscope)作為一種強大的分析工具,廣泛應用于材料科學、生物學、半導體等領域。其核心功能之一就是通過的聚焦技術,確保掃描電子束能夠高效且清晰地探測樣品表面特征,從而提供高分辨率的圖像和數據。要獲得高質量的掃描圖像,正確的聚焦至關重要。在這篇文章中,我們將詳細探討掃描電鏡的聚焦原理、聚焦過程中常見的問題以及如何通過合理調整參數確保佳成像效果。
掃描電鏡的聚焦原理
掃描電鏡的基本原理是利用電子束掃描樣品表面,并通過探測二次電子、背散射電子等信號來形成圖像。電鏡中的電子束必須聚焦在樣品的表面,以獲得清晰的圖像。聚焦過程通過調節電子束的大小、形狀和射向樣品的角度來實現,這需要精確的控制電子鏡頭系統。在SEM中,電子鏡頭通常由多個磁透鏡構成,每個透鏡通過調整電流來影響電子束的聚焦度。
如何聚焦掃描電鏡
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調節光圈:光圈控制電子束的大小,它直接影響到束流的強度和成像的深度。當光圈調整不當時,電子束可能會擴散或聚焦不清,導致圖像模糊。通常,使用較小的光圈會提供更高的分辨率,但也會減小視場。
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調整物鏡透鏡:掃描電鏡通過物鏡透鏡進行精確聚焦。物鏡透鏡的調節主要是通過改變電流強度來實現。當樣品距離透鏡不合適時,圖像會顯得不清晰,因此調整物鏡透鏡的位置是確保清晰成像的關鍵。
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對焦的細節調節:在實際操作中,電鏡通常配備精細的對焦系統,允許用戶在微米甚至納米級別精確調節焦點。通過在圖像屏幕上觀察樣品表面,可以實時調整焦距,直到圖像清晰為止。
常見的聚焦問題及其解決方法
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圖像模糊:這通常是由于對焦不準或電子束未能有效聚焦所致。解決方法是通過調整物鏡透鏡和光圈來重新聚焦,或者檢查電鏡的電子源是否穩定。
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樣品表面損傷:當聚焦過于集中時,電子束的能量過高可能會對樣品表面造成損害。為避免這種情況,應適當減小束流并適當調節對焦。
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焦點漂移:由于樣品或電鏡系統的溫度變化,焦點可能會發生漂移。為了克服這個問題,使用精細的對焦調節系統是非常重要的。
如何確保佳聚焦效果
在掃描電鏡的操作中,確保佳聚焦效果的關鍵是細致的調節和耐心的操作。除了基礎的物鏡調節和光圈控制外,操作員應當熟悉樣品的特性和掃描參數的影響,并能夠根據實際情況調整聚焦參數。保持電鏡系統的穩定性,定期校準設備,也能大大提高聚焦效果和圖像質量。
掃描電鏡的聚焦是一個精細而復雜的過程,只有通過對電子束的準確控制與合理調節,才能確保獲得高質量的掃描圖像。掌握這一過程的技巧,能夠極大提升掃描電鏡在科學研究和工業應用中的精度和可靠性。
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- 激光掃描共聚焦熒光顯微鏡的激光掃描共聚焦顯微鏡基本結構
- 掃描電子顯微鏡怎么聚焦
掃描電子顯微鏡怎么聚焦:深入了解聚焦技術的關鍵
掃描電子顯微鏡(SEM)是現代科學研究中不可或缺的工具,廣泛應用于材料學、生物學、納米技術等領域。其高分辨率和成像能力使得研究人員能夠觀察到微觀結構的細節。SEM的高效使用離不開精確的聚焦操作,這直接關系到成像質量和實驗結果的準確性。本文將詳細探討掃描電子顯微鏡的聚焦原理、操作步驟及常見問題,幫助用戶更好地掌握SEM聚焦技巧。
1. 掃描電子顯微鏡的基本工作原理
掃描電子顯微鏡通過電子束掃描樣品表面,利用樣品與電子束相互作用產生的信號來形成圖像。與光學顯微鏡不同,電子顯微鏡使用電子代替光線,因此可以在更高的放大倍率下觀察樣品。聚焦則是確保電子束準確聚集到樣品表面特定位置,產生清晰圖像的關鍵過程。
2. 聚焦的關鍵步驟與技巧
聚焦掃描電子顯微鏡需要精確調節電子束的焦距和掃描參數。具體步驟包括:
- 調整電子槍:首先,通過調整電子槍電流和加速電壓來確保電子束穩定。如果電子束過強或過弱,都會影響成像質量。
- 粗聚焦與精細聚焦:通過調節物鏡(或聚焦透鏡)的電壓,粗略地將電子束聚焦到樣品上。之后,使用精細聚焦調節器,細致地調整焦距,確保圖像清晰。
- 掃描范圍調節:確保掃描區域與樣品的實際大小相匹配。過大的掃描區域可能導致圖像模糊,過小則可能錯過關鍵信息。
3. 聚焦時常見問題及解決方法
在使用SEM時,聚焦不準是常見的問題之一。常見問題及其解決方法如下:
- 圖像模糊:可能是因為電子束未正確聚焦,需再次調整焦距或電子槍參數。
- 焦點漂移:長期使用可能導致電子束位置漂移。此時需要重新校準儀器,檢查電壓和電流設置。
- 樣品表面不平整:表面粗糙或結構復雜的樣品容易造成聚焦困難。應選用適當的放大倍率,并注意樣品的處理和準備工作。
4. 聚焦技術的未來發展趨勢
隨著電子顯微鏡技術的不斷進步,聚焦技術也在不斷發展。例如,自動化聚焦系統的出現大大提高了操作的度和效率,同時降低了操作人員的技能要求。未來,結合人工智能和機器學習的自動聚焦技術有望進一步提升掃描電子顯微鏡的性能,優化實驗流程。
結論
掃描電子顯微鏡的聚焦技術是確保高質量成像的核心。在實際操作中,了解聚焦的基本原理,掌握聚焦技巧,并及時解決常見的聚焦問題,能夠大幅提高實驗的精確度與效率。隨著技術的不斷發展,未來SEM的聚焦過程將變得更加自動化和智能化,為科學研究提供更為強大的支持。
- 透射電子顯微鏡怎么聚焦
透射電子顯微鏡怎么聚焦:深入解析聚焦原理與操作技巧
透射電子顯微鏡(TEM)作為一種高分辨率的科學研究工具,廣泛應用于材料學、生命科學及納米技術等領域。其關鍵技術之一就是聚焦,決定了顯微鏡成像的清晰度與準確性。在本文中,我們將深入探討透射電子顯微鏡的聚焦原理、常見的聚焦方法及操作技巧,幫助用戶更好地掌握這一精密設備,提升顯微鏡的使用效果和圖像質量。
透射電子顯微鏡聚焦的原理
透射電子顯微鏡的工作原理依賴于電子束與樣品相互作用,進而產生放大圖像。聚焦的核心目標是通過電子透鏡系統將電子束精確地集中到樣品的特定區域,從而獲得清晰的圖像。顯微鏡中電子束的聚焦過程與光學顯微鏡有所不同,因為電子的波長比可見光波長短,能夠提供更高的分辨率。
透射電子顯微鏡的聚焦方法
- 粗聚焦與精細聚焦
在使用透射電子顯微鏡時,首先進行粗聚焦。這是通過調整顯微鏡中的粗調焦輪來實現的,通常用于將樣品大致放置在視野內。之后,通過精細調焦調整電子束,使圖像更加清晰,精確控制焦距,以獲取佳的圖像細節。
- 電子束調整
為了確保聚焦效果,操作人員需要根據樣品的厚度和類型適時調整電子束的強度和聚焦位置。過強的電子束可能導致樣品損傷或圖像失真,而過弱的電子束則可能影響圖像質量。
- 離焦與焦距調節
通過對透射電子顯微鏡的離焦控制,可以優化圖像的清晰度。離焦是指電子束未能準確聚焦到樣品表面,通常表現為圖像模糊。通過調節焦距并適當調整顯微鏡的透鏡系統,可以有效避免這一問題,確保成像清晰。
- 自動聚焦技術
許多現代透射電子顯微鏡配備了自動聚焦系統,該系統能夠自動檢測和調整焦距,以確保成像的穩定性。雖然自動聚焦系統提高了操作的便捷性,但仍需在復雜樣品或高分辨率成像時手動微調,以獲得理想的效果。
影響聚焦效果的因素
- 樣品的厚度與形態
樣品的厚度直接影響電子束的穿透深度,從而影響焦點的準確性。較厚的樣品需要較強的聚焦,而薄樣品則相對容易聚焦。樣品的形態和材質特性也會對聚焦效果產生影響,需要根據實際情況調整聚焦策略。
- 顯微鏡的光學系統
顯微鏡的光學系統,包括電子槍、透鏡以及其他組件,都會影響聚焦效果。老化的組件或損壞的鏡頭可能導致聚焦困難,影響圖像質量。因此,定期的顯微鏡維護和校準是確保其正常工作的關鍵。
- 操作技巧與經驗
透射電子顯微鏡的操作不僅僅是一個簡單的物理調整過程,操作人員的經驗和技巧同樣至關重要。熟練的操作員可以更好地掌握不同類型樣品的聚焦要求,避免因操作不當導致的圖像失真。
結語
透射電子顯微鏡的聚焦技術是顯微鏡成像的基礎,直接關系到圖像質量與分析結果的準確性。從粗聚焦到精細調焦,再到自動聚焦系統的應用,每個環節都需要操作人員細致入微的調整和操作。了解并掌握這些聚焦技巧,對于提升研究質量、減少誤差具有重要意義。對于任何進行透射電子顯微鏡研究的專業人員而言,熟練掌握這些操作無疑是科研成功的關鍵。
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- 便攜式COD測定儀技術參數檢測項目:COD;...便攜式COD測定儀技術參數檢測項目:COD;檢測量程:10-15000mg/L(分段);檢測方法:水質化學需氧量快速檢測法參考標準:HJ/T399-2007; 比色方式:預制比色試管16mm;比色皿50mm(含)以下;操作系統:安卓智能操作系統;屏幕顯示:8英寸高清觸摸屏,1024*768分辨率;示值誤差:≤±5%;重復性:<0.5%;穩定性:<0.5%;分辨率:0.001;光學穩定性:≤±0.001Abs/20分鐘(10萬小時壽命);自動校準:儀器具有自動校準功能;打印方式:微型熱敏打印機;操作視頻:≥4個項目的操作步驟演示視頻;
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