· 硬度標尺 ：4Be~92U

· 發射源：搭載高亮度肖特基發射體

· 二次電子圖像分辨率：3nm（加速電壓30kV）

· X射線取出角角度：52.5°，ZD限度減少X射線被吸收

· 分光晶體：全聚焦型

· X射線譜儀：高靈敏度、高分辨率型

1 高亮度肖特基發射體
場發射電子槍采用的肖特基發射體比一般傳統SEM使用的發射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩定大電流。

2 EPMA專用電子光學系統
電子光學系統，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的。簡單的透鏡結構，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設定最合適的打開角度，將電子束壓縮到最細。當然是不需要更換物鏡光闌的。

3 超高真空排氣系統
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發射體穩定工作。

4 高靈敏度X射線譜儀
最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收，實現高靈敏度的分析。