NIL壓印機(jī)的基本思想是通過模版，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。整個過程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個過程。根據(jù)壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing， uCP）三種光刻技術(shù)。

二、 功能

主要功能

納米壓印機(jī)的主要功能是將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。壓印技術(shù)主要分為以下兩種：

熱壓：首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料（如PMMA）。升溫并達(dá)到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg（Glass transistion temperature）之上。熱塑性材料在高彈態(tài)下，將具有納米尺度的模具壓在上面，并施加適當(dāng)?shù)膲毫Γ瑹崴苄圆牧蠒畛淠＞咧械目涨唬哼^程結(jié)束后，溫度降低使熱塑性材料固化，從而得到與模具的重合的圖形。隨后移去模具，并進(jìn)行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物。接下來進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移可以采用刻蝕或者剝離的方法。刻蝕技術(shù)以熱塑性材料為掩膜，對其下面的襯底進(jìn)行各向異性刻蝕，從而得到相應(yīng)的圖形。剝離工藝先在表面鍍一層金屬，然后用有機(jī)溶劑溶解掉聚合物，隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離，從而在襯底上有金屬作為掩膜，隨后再進(jìn)行刻蝕得到圖形。

紫外壓印：為了改善熱壓印中熱變形的缺點(diǎn)，特克薩斯大學(xué)的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開發(fā)出步進(jìn)-閃光壓印（Step- Flash Imprint Lithography），這種工藝中采用對紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（軟模），光阻膠采用低粘度，光固化的單體溶液。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上，結(jié)合微電子工藝，薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法，用很低的壓力將模版壓到晶圓上，使液態(tài)分散開并填充模版中的空腔。透過模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型。后刻蝕殘留層和進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移，得到高深寬比的結(jié)構(gòu)。后的脫模和圖形轉(zhuǎn)移過程同熱壓工藝類似。

技術(shù)特點(diǎn)

★主機(jī)包含：真空系統(tǒng)，溫度控制系統(tǒng)，壓力控制系統(tǒng)，水冷系統(tǒng)，PLC 控制系統(tǒng)，軟件操作界面，紫外光源，單面電磁加熱系統(tǒng) 

設(shè)備壓印尺寸：6 英寸。

設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)熱壓印、紫外曝光壓印

★大壓力：8bar（空壓機(jī)），20bar（外接超凈室氣源）

溫度范圍：從室溫到 250 攝氏度。

紫外光源類型：高壓汞燈：功率：400W，主波長：365nm。

★設(shè)備真空度：10 帕。

★設(shè)備隨機(jī)可以根據(jù)科研需求提供全系列的納米壓印膠，包括：

熱壓膠、紫外光固化膠 

深刻蝕型壓印膠、舉離型（Lift-Off）壓印膠

快速模板制作材料、各類模板防沾劑、襯底增粘劑等 

★隨設(shè)備隨機(jī)可以根據(jù)科研需求提供定制納米壓印模板，包括：周期 400nm的 4英寸點(diǎn)陣模板鎳模板 SFP? & Hybrid Mold?軟模板

支持 20nm 分辨率及曲面壓印，并提供文獻(xiàn)工藝支持，

★支持自動脫模，電磁加熱功能

國內(nèi)外大于 10 個客戶

★工藝包括：

納米壓印膠旋涂工藝支持 

納米壓印模板防粘工藝支持，避免脫模粘膠影響 

納米壓印機(jī)參數(shù)調(diào)節(jié) 

軟模板工藝，包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工藝

ICP 刻蝕工藝

柔性聚合物襯底壓印工藝，Nickel Template 金屬鎳模板熱壓 PET、PMMA 等

舉離（Lift-off）工藝支持，加工金屬結(jié)構(gòu)

納米壓印表征技術(shù) 

更新壓印工藝研發(fā)指導(dǎo)，文獻(xiàn)支持

技術(shù)能力

該設(shè)備的發(fā)明人2001年至 2003 年，在納米壓印技術(shù)發(fā)明人、 美國普林斯頓大學(xué) StephenY.Chou 教授的納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室作為研究助理進(jìn)行了為期 3 年的研究工作，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料，對納米壓印技術(shù)的發(fā)展做出了重要的貢獻(xiàn)。2004 年加入材料科學(xué)與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術(shù)與納米壓印技術(shù)開展研究工作，研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料，發(fā)展了新型高分子壓印模板，提出了曲面納 米壓印技術(shù)；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設(shè)備的研制與應(yīng)用”項(xiàng)目的支持，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設(shè)備，現(xiàn)已成為產(chǎn)品，并被南京大學(xué)、北京航空航天大學(xué)、國防科技大學(xué)、黑龍江大學(xué)、中科院深圳研究院等多家高校和科研機(jī)構(gòu)所采用，形成了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的納米壓印核心技術(shù)，技術(shù)水準(zhǔn)與當(dāng)前國際該領(lǐng)域水平同步。

應(yīng)用

納米壓印技術(shù)是目前納米溝道加工的主要技術(shù)。傳統(tǒng)的光刻技術(shù)主要是利用電子和光子改變光刻膠的物理化學(xué)性質(zhì)，進(jìn)而得到相應(yīng)的納米圖形。而納米壓印技術(shù)則可以在不使用電子和光子的前提下，直接利用物理學(xué)機(jī)理機(jī)械地在光刻膠上構(gòu)造納米尺寸圖形。正是由于這種機(jī)械作用，使得納米壓印技術(shù)不再受到光子衍射和電子散射的限制，可大面積地制備納米級圖形。同時，由于這項(xiàng)技術(shù)所用的設(shè)備簡單，制備時間短，壓印模板可以重復(fù)使用，所以應(yīng)用該技術(shù)制備納米圖形所需的成本也較低。目前典型的三類納米壓印技術(shù)分別是：熱壓印，紫外固化壓印，微接觸印刷。分別適用在其各自的領(lǐng)域：

熱壓印技術(shù)：光電、光學(xué)器件；微型機(jī)電系統(tǒng)領(lǐng)域。

紫外固化壓印技術(shù)：納米光電器件、納米電子器件的生產(chǎn)；NEMS和MEMS加工；半導(dǎo)體集成電路的制造。

微接觸印刷技術(shù)：生物芯片和微流體器件的生產(chǎn)；生物傳感器（抗體光柵）；微機(jī)械元件的生產(chǎn)。

加工工藝來分，主要包含五大部分：壓印，刻蝕，鍍膜，檢測&表征與其他。所涉及的儀器設(shè)備主要包括：納米壓印機(jī)，感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)，原子力顯微鏡&掃描電鏡，以及超聲波清洗機(jī)&真空干燥箱等。

Sandwiched Flexible Polymer-SFP? & Hybrid Mold?軟模板壓印技術(shù)

盡可能消除灰塵顆粒對于納米壓印結(jié)果產(chǎn)生的影響

   在不規(guī)則表面或者曲面進(jìn)行納米壓印（下圖為單模光纖進(jìn)行的納米壓印）

Nickel Template金屬鎳模板熱壓技術(shù)

直接對于聚合物襯底（PMMA、PET等材料上）直接熱壓，免去了刻蝕環(huán)節(jié)。

先進(jìn)的電鍍工藝支持加工微納米尺度鎳模板   大面積600nm周期鎳模板

鎳模板壽命長，適合高溫高壓連續(xù)壓印。